大根光学工业股份有限公司陈子淦获国家专利权
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龙图腾网获悉大根光学工业股份有限公司申请的专利感光元件模块、相机模块及电子装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223168371U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-29发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421872783.8，技术领域涉及：H04N23/54；该实用新型感光元件模块、相机模块及电子装置是由陈子淦;刘迪伦;黄日忠;王毓斌;赖昱辰;周明达设计研发完成，并于2024-08-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本感光元件模块、相机模块及电子装置在说明书摘要公布了：一种感光元件模块、相机模块及电子装置，感光元件模块包含一感光面、一滤光元件及一第一抗反射微结构，其中滤光元件面向感光面，且第一抗反射微结构设置于感光面。滤光元件包含一基板、一光学沉积层结构及一光学涂层，其中光学沉积层结构设置于基板远离感光面的一侧，且光学涂层与光学沉积层结构相对设置于基板面向感光面的一侧。光学沉积层结构为多层。第一抗反射微结构与滤光元件之间形成一空气层，且第一抗反射微结构与空气层在垂直感光面的方向部分重叠。借此，可改善夜拍的成像品质。
本实用新型感光元件模块、相机模块及电子装置在权利要求书中公布了：1.一种感光元件模块，其特征在于，包含： 一感光面； 一滤光元件，面向该感光面，且包含： 一基板； 一光学沉积层结构，设置于该基板远离该感光面的一侧，其中该光学沉积层结构为多层，且该光学沉积层结构的层数大于10；及 一光学涂层，与该光学沉积层结构相对设置于该基板面向该感光面的一侧，其中该光学涂层的层数包含一，且该光学涂层的厚度介于900nm至5μm；以及 一第一抗反射微结构，设置于该感光面，该第一抗反射微结构与该滤光元件之间形成一空气层，且该第一抗反射微结构与该空气层在垂直该感光面的方向部分重叠； 其中，该滤光元件对450nm至550nm波长的光线穿透率大于等于80％；该滤光元件的穿透率为50％且大于550nm的一第一波长为T50；该第一抗反射微结构对450nm到该第一波长T50的反射率小于等于0.93％，其满足下列条件： 600nm≤T50≤720nm。
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