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龙图腾网获悉苏州大学申请的专利一种三维微纳结构的偏振干涉光刻方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120178618B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510668509.1，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种三维微纳结构的偏振干涉光刻方法及系统是由叶燕;许宜申设计研发完成，并于2025-05-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种三维微纳结构的偏振干涉光刻方法及系统在说明书摘要公布了：本发明属于微纳结构加工技术领域，涉及一种三维微纳结构的偏振干涉光刻方法及系统，利用振幅空间光调制元件调制入射光场的振幅得到振幅调制光场；利用晶体全息光学元件对振幅调制光场调制得到第一透射光场；利用全息光学元件调制第一透射光场以在傅立叶频谱面上得到第二透射光场；利用第一傅立叶变换透镜对振幅调制光场、第一透射光场和第二透射光场进行傅立叶变换，得到傅立叶变换光场；利用第二傅立叶变换透镜对傅立叶变换光场进行傅立叶变换，在成像面上得到光强及相位均可调的干涉光场；调整干涉光场的光强和相位使得干涉光场的分布与预设的三维微纳结构相匹配，从而制备预设的三维微纳结构。本方案能够制备高精度且线宽较小的三维微纳结构。

本发明授权一种三维微纳结构的偏振干涉光刻方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种三维微纳结构的偏振干涉光刻方法，其特征在于，包括： 利用振幅空间光调制元件调制入射光场的振幅，得到振幅调制光场； 利用晶体全息光学元件调制振幅调制光场的偏振、振幅和相位，得到第一透射光场； 利用全息光学元件调制第一透射光场的振幅和相位，以在傅立叶频谱面上得到第二透射光场； 利用傅立叶变换光学系统中的第一傅立叶变换透镜对振幅调制光场、第一透射光场和第二透射光场进行傅立叶变换，得到傅立叶变换光场； 利用傅立叶变换光学系统中的第二傅立叶变换透镜对傅立叶变换光场进行傅立叶变换，从而在成像面上得到光强及相位均可调的干涉光场； 改变振幅空间光调制元件的振幅调制参数和或晶体全息光学元件的调制区域和或全息光学元件与傅立叶频谱面的距离，以调整干涉光场的光强和相位，使得干涉光场的分布与预设的三维微纳结构相匹配，从而在光敏材料表面制备得到预设的三维微纳结构；其具体包括： 基于光敏材料的材料参数、预设的三维微纳结构的尺寸参数，获取预设的三维微纳结构的光场分布函数； 获取干涉光场的光场分布函数，从而计算三维微纳结构的光场分布函数和干涉光场的光场分布函数的误差，并判断误差与预设误差阈值的大小； 当误差大于等于预设误差阈值时，改变振幅空间光调制元件的振幅调制参数和或晶体全息光学元件的调制区域和或全息光学元件与傅立叶频谱面的距离，以调整干涉光场的光强和相位； 重新获取干涉光场的光场分布函数，直至三维微纳结构的光场分布函数与干涉光场的光场分布函数的误差小于预设误差阈值。

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