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华芯程(杭州)科技有限公司请求不公布姓名获国家专利权

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龙图腾网获悉华芯程(杭州)科技有限公司申请的专利光学邻近效应修正方法、装置、存储介质及电子设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120215202B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510706877.0,技术领域涉及:G03F1/36;该发明授权光学邻近效应修正方法、装置、存储介质及电子设备是由请求不公布姓名设计研发完成,并于2025-05-29向国家知识产权局提交的专利申请。

光学邻近效应修正方法、装置、存储介质及电子设备在说明书摘要公布了:本申请公开了一种光学邻近效应修正方法、装置、存储介质及电子设备,其中,该光学邻近效应修正方法包括获取待修正掩膜版图;对待修正掩膜版图的掩膜边界进行离散化处理,得到若干第一边界段;基于霍普金斯光学传递矩阵,计算每条第一边界段的雅可比矩阵;将雅可比矩阵输入至偏移预测模型,预测每条第一边界段的偏移量;根据偏移量调整对应第一边界段的位置,生成修正后掩膜版图。本方案可以降低OPC的计算复杂度。

本发明授权光学邻近效应修正方法、装置、存储介质及电子设备在权利要求书中公布了:1.一种光学邻近效应修正方法,其特征在于,包括: 获取待修正掩膜版图; 对所述待修正掩膜版图的掩膜边界进行离散化处理,得到若干第一边界段; 基于霍普金斯光学传递矩阵,计算每条所述第一边界段的雅可比矩阵; 将所述雅可比矩阵输入至偏移预测模型,预测每条所述第一边界段的偏移量; 根据所述偏移量更新对应所述第一边界段的位置; 基于更新后的所述第一边界段,对所述待修正掩膜版图的透射谱进行更新; 根据所述霍普金斯光学传递矩阵和更新后的所述透射谱计算当前曝光误差; 基于所述当前曝光误差,通过牛顿迭代法更新对应所述第一边界段的位置,直至达到收敛条件为止; 当达到所述收敛条件时,生成修正后掩膜版图。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人华芯程(杭州)科技有限公司,其通讯地址为:310000 浙江省杭州市余杭区良渚街道网周路99号1幢22层2208室;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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