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龙图腾网获悉沈阳腾鳌真空技术有限公司申请的专利一种真空蒸馏炉获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120230918B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510702987.X，技术领域涉及：C22B9/02；该发明授权一种真空蒸馏炉是由刘明;慈连鳌设计研发完成，并于2025-05-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种真空蒸馏炉在说明书摘要公布了：本发明提供了一种真空蒸馏炉，属于真空蒸馏技术领域；真空蒸馏炉包括：工作台、安装底座、加热炉、坩埚、电加热组件、收集筒组件、水冷基座、导磁筒组件、下磁铁、上磁铁、收集板、下真空腔室、上真空腔室、水管组件和升降机构；通过将导磁筒组件安装在水冷基座的外侧，将收集筒组件嵌入水冷基座内，并使收集筒组件的开口与加热炉的开口相连通，以实现当对铍金属原料进行加热时，汽化后的铍金属原料能够进入收集筒组件内，并能够实现在铍金属原料的蒸发通道周围施加磁场，从而使高纯度铍材料能够吸附在收集筒组件的侧壁上，并使铁磁性杂质的运行轨迹发生偏移，并被收集板吸附，进而将铍材料与铁磁性杂质分离。

本发明授权一种真空蒸馏炉在权利要求书中公布了：1.一种真空蒸馏炉，其特征在于，所述真空蒸馏炉包括： 工作台，所述工作台为中空腔体； 安装底座，所述安装底座安装在所述工作台的顶部； 加热炉，所述加热炉为顶部具有开口的中空腔体，所述加热炉安装在所述安装底座上； 坩埚，所述坩埚为顶部具有开口的中空腔体，所述坩埚安装在所述加热炉内，所述坩埚位于所述加热炉的上部，且所述坩埚的开口与所述加热炉的开口相连通； 电加热组件，所述电加热组件安装在所述加热炉内，且所述电加热组件绕设在所述坩埚的外侧； 收集筒组件，所述收集筒组件为底部具有开口的中空腔体，所述收集筒组件位于在所述加热炉的上方，且所述收集筒组件的开口与所述加热炉的开口相连通； 水冷基座，所述水冷基座为底部具有开口的中空腔体，所述水冷基座内设置冷却通道，所述收集筒组件嵌入所述水冷基座内，且所述水冷基座与所述收集筒组件相连接； 导磁筒组件，所述导磁筒组件为底部具有开口的中空腔体，所述导磁筒组件绕设在所述水冷基座的外侧，且所述导磁筒组件与所述水冷基座相连接； 下磁铁，所述下磁铁呈环状，所述下磁铁绕设在所述水冷基座的外侧，且所述下磁铁嵌入所述导磁筒组件内； 上磁铁，所述上磁铁呈圆锥形，所述上磁铁位于所述导磁筒组件内，所述上磁铁安装在所述导磁筒组件的顶部，且所述上磁铁与所述水冷基座的顶部相贴合； 收集板，所述收集板为铁磁体，所述收集板位于所述收集筒组件内，所述收集板安装在所述收集筒组件的顶部，且所述收集板与所述上磁铁相对； 下真空腔室，所述下真空腔室为上下两端具有开口的中空腔体，所述下真空腔室安装在所述工作台上，所述下真空腔室绕设在所述安装底座和所述加热炉的外侧，且至少部分所述导磁筒组件位于所述下真空腔室内； 上真空腔室，所述上真空腔室为底部具有开口的中空腔体，所述上真空腔室放置在所述下真空腔室上，所述上真空腔室的开口与所述下真空腔室的开口相连通，所述导磁筒组件位于所述上真空腔室内，且所述上真空腔室与所述导磁筒组件相连接； 水管组件，至少两个所述水管组件穿过所述上真空腔室的顶部，且至少两个所述水管组件同时与所述水冷基座的冷却通道相连通； 升降机构，所述升降机构安装在所述工作台上，且所述升降机构与所述上真空腔室相连接。

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