深圳市汉嵙新材料技术有限公司蔡比亚获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市汉嵙新材料技术有限公司申请的专利反射膜及背光源模组获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223193154U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202521037860.2，技术领域涉及：G02B5/08；该实用新型反射膜及背光源模组是由蔡比亚;王荣福;朱海峰;袁昌理设计研发完成，并于2025-05-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本反射膜及背光源模组在说明书摘要公布了：本实用新型涉及一种反射膜及背光源模组。上述反射膜包括依次层叠设置的透明基材层、银层、扩散阻挡层以及铝层。扩散阻挡层包括三氧化二铝层、二氧化硅层、二氧化钛层、氮化铝层、氮化硅层、ITO层、AZO层、GZO层、IZO层、ZTO层以及石墨烯层中的至少一层。上述反射膜在透明基材层上设置银层，其具有高反射率，在银层背面设置铝层作为辉度补偿层，可以在保持高反射率的情况下，对银层进行减薄，以降低成本。并且，通过在银层和铝层之间设置扩散阻挡层，能够防止铝原子向银层的扩散，避免反射效率的下降。
本实用新型反射膜及背光源模组在权利要求书中公布了：1.一种反射膜，其特征在于，包括依次层叠设置的透明基材层、银层、扩散阻挡层以及铝层，所述扩散阻挡层包括三氧化二铝层、二氧化硅层、二氧化钛层、氮化铝层、氮化硅层、ITO层、AZO层、GZO层、IZO层、ZTO层以及石墨烯层中的至少一层。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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