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龙图腾网获悉中国科学院西安光学精密机械研究所申请的专利一种基于高陡度滤光片的薄膜元件的面形修正方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120028950B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510503451.5，技术领域涉及：G02B27/00；该发明授权一种基于高陡度滤光片的薄膜元件的面形修正方法是由李绵;刘文成;刘政设计研发完成，并于2025-04-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于高陡度滤光片的薄膜元件的面形修正方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种基于高陡度滤光片的薄膜元件的面形修正方法，解决在双面镀膜时，如何精确把握SiO2膜的厚度，达到利用SiO2膜应力来控制薄膜元件面形的问题。本发明通过建立薄膜元件的面形修正数学模型，得到同一薄膜元件两次面形修正后SiO2膜厚度与薄膜元件形变之间的数学模型，随后采用高、低折射率的两种材料制备高陡度滤光片并将其镀在基底前表面，根据基底前表面的高陡度滤光片厚度计算出第一次面形修正的SiO2膜厚度进行第一次面形修正，随后根据薄膜元件的面形修正数学模型计算出第二次面形修正的SiO2膜厚度进行第二次面形修正，根据同一薄膜元件两次面形修正后SiO2膜厚度与薄膜元件形变之间的关系可知，进行两次面形修正，即可达到理想的面形。

本发明授权一种基于高陡度滤光片的薄膜元件的面形修正方法在权利要求书中公布了：1.一种基于高陡度滤光片的薄膜元件的面形修正方法，其特征在于，包括以下步骤： S1、建立薄膜元件的面形修正数学模型； S2、采用高折射率的材料作为高折射率层，采用低折射率的材料作为低折射率层，制备高陡度滤光片，并将高陡度滤光片镀在基底前表面； S3、根据基底前表面的高陡度滤光片厚度计算出第一次面形修正的SiO2膜厚度，并根据计算出的厚度在基底后表面镀SiO2膜进行第一次面形修正； 根据薄膜元件的面形修正数学模型，计算出第二次面形修正的SiO2膜厚度，并根据计算出的厚度镀SiO2膜进行第二次面形修正； 步骤S3具体为： S3.1、根据基底前表面的高陡度滤光片的厚度计算第一次面形修正的SiO2膜厚度tf1： tf1＝0.7KtH+tL； 其中：tH为高陡度滤光片中高折射率层的实际总厚度，tL为高陡度滤光片中低折射率层的实际总厚度，K为常数； S3.2、根据计算出的第一次面形修正的SiO2膜厚度tf1在基底的后表面镀SiO2膜，进行第一次面形修正； S3.3、镀膜完成后，测量第一次面形修正后薄膜元件的矢高Power2； S3.4、计算出进行第一次面形修正后的SiO2膜厚度引起的基底矢高变化量Δpower1： Δpower1＝Power2-Power1； S3.5、根据同一薄膜元件两次面形修正后SiO2膜厚度与薄膜元件形变之间的数学模型，计算出第二次面形修正的SiO2膜厚度tf2： 其中：Δpower0为增透膜作用于薄膜元件表面时薄膜元件产生的矢高变化量； S3.6、根据计算出的第二次面形修正的SiO2膜厚度tf2镀SiO2膜，进行第二次面形修正； S4、在修正完成后的SiO2膜上镀增透膜，完成基于高陡度滤光片的薄膜元件的面形修正。

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