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龙图腾网获悉深圳市昇维旭技术有限公司申请的专利薄膜沉积设备及制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120006260B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510497194.9，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权薄膜沉积设备及制备方法是由万煜设计研发完成，并于2025-04-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本薄膜沉积设备及制备方法在说明书摘要公布了：一种薄膜沉积设备及制备方法，通过在高度方向上间隔设置多个转盘结构，且每个转盘结构上沿嵌合件周向分布多个晶圆槽，能够一次性容纳更多的晶圆进行薄膜沉积加工，有效提高了设备的生产效率。在薄膜沉积设备工作时，反应腔中的进气单元提供工艺气体，抽气单元抽出反应腔废气，转动结构通过沿高度方向移动并设置在单个转盘结构的嵌合件中来带动对应转盘结构转动，气体隔离结构在保持各个晶圆槽所处气体环境隔离的前提下，使得晶圆通过转动通道在不同隔离空间中转移，使晶圆依次循环经过不同的隔离空间完成薄膜沉积，既保证了气体隔离的效果，又确保了连续的薄膜沉积过程。

本发明授权薄膜沉积设备及制备方法在权利要求书中公布了：1.一种薄膜沉积设备，其特征在于，包括： 反应腔； 多个转盘结构，在高度方向上间隔设置，所述转盘结构包括嵌合件和沿所述嵌合件周向分布的多个晶圆槽； 转动结构，在所述高度方向上延伸，用于沿所述高度方向移动并设置在单个所述转盘结构的所述嵌合件中，带动所述转盘结构转动； 多个气体隔离结构，所述气体隔离结构沿所述高度方向延伸，所述气体隔离结构沿所述高度方向贯穿所述反应腔的顶部和底部，所述气体隔离结构沿所述高度方向滑动进行升降，多个所述气体隔离结构将所述反应腔分隔成多个隔离空间，所述气体隔离结构上设置有供一个所述转盘结构旋转穿过的转动通道；其中，所述隔离空间的数量与所述转盘结构中所述晶圆槽的数量相等； 所述气体隔离结构包括：第一气帘板；第二气帘板，设置在所述第一气帘板的底部，与所述第一气帘板保持固定间隔设置，所述第二气帘板和第一气帘板之间的空间为所述转动通道；所述第一气帘板的顶部具有第一进气孔，所述第一气帘板的底部包括多个间隔排布的第一出气孔，所述第一出气孔与所述第一进气孔连通，惰性气体经所述第一进气孔、所述第一出气孔后被输送到所述第二气帘板的顶部；所述第二气帘板的顶部包括多个间隔排布的第二进气孔，用于吸取气体，所述第二气帘板的底部具有第二出气孔；其中，所述第二进气孔与所述第一出气孔对应，用于在所述转动通道内形成气帘屏障； 进气单元，位于所述反应腔中； 抽气单元，位于所述反应腔中，所述抽气单元包括气帘抽气组件，与所述第二出气孔连通，用于抽取所述气体隔离结构中的气体。

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