浙江华东工程数字技术有限公司;中国电建集团华东勘测设计研究院有限公司金人笑获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江华东工程数字技术有限公司;中国电建集团华东勘测设计研究院有限公司申请的专利基于模板缓冲的多模型补面方法、终端以及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119919557B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510409170.3，技术领域涉及：G06T15/00；该发明授权基于模板缓冲的多模型补面方法、终端以及存储介质是由金人笑;庞立;尹山;王天宇;李迎蕾;虞敬娴设计研发完成，并于2025-04-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于模板缓冲的多模型补面方法、终端以及存储介质在说明书摘要公布了：本发明涉及三维图形渲染技术领域，具体涉及一种基于模板缓冲的多模型补面方法、终端以及存储介质，包括如下步骤：获取若干个待处理模型和剖切平面，生成相应的补面平面；为待处理模型、补面平面设立按位对应的编号；对待处理模型进行双面渲染、补面平面进行单面渲染；将模板值中编号对应的二进制位不为1的补面平面的片元舍弃，完成补面平面的修剪。本发明运用按位对应编号规则、双面渲染与按位取反相结合、以及多模型共享单模板值的并行化机制，解决了传统方法频繁清空模板值、严格依赖顺序渲染、对多模型支持不足等问题。
本发明授权基于模板缓冲的多模型补面方法、终端以及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种基于模板缓冲的多模型补面方法，其特征在于，包括如下步骤： 获取若干个待处理模型和定义的剖切平面，生成相应的补面平面； 为待处理模型设置与模板缓冲区的模板值的二进制位一一对应的编号n，补面平面与其对应的待处理模型使用相同编号； 设置待处理模型和补面平面的渲染状态，包括：将待处理模型、补面平面的模板掩码值设为2的n次幂；将模板值的初始值设为0； 开启渲染的第一流程，包括：对待处理模型进行双面渲染，像素每被片元覆盖一次，则基于模板掩码值对模板值进行一次取反操作从而在模板值写入模型缺口的信息； 开启渲染的第二流程，对补面平面进行单面渲染，将渲染的第一流程后模板值对应二进制位为1的补面平面的片元保留，模板值对应二进制位为0的补面平面的片元舍弃，从而将补面平面超出待补面区域的部分切除，完成补面平面的修剪。
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