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龙图腾网获悉江苏纽势达新材料装备有限公司申请的专利一种半导体蚀刻后清洗装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223185071U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422320572.X，技术领域涉及：B08B3/02；该实用新型一种半导体蚀刻后清洗装置是由黄杰;卢刚;王禹;姜昆;云佐先设计研发完成，并于2024-09-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种半导体蚀刻后清洗装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种半导体蚀刻后清洗装置，涉及清洗装置技术领域，包括清洗机构和调节机构，所述清洗机构内部固定连接有翻转机构，所述翻转机构上部安装有限位机构，所述清洗机构包括操作台和清洗供水管组件，所述操作台表面固定连接有储水箱。本实用新型，通过步进电机带动一号同步轮进行转动，再由同步带带动二号同步轮转动，进而带动限位机构侧面固定的半导体加工件进行翻转，通过二号同步轮带动工件进行翻转从而可以对工件各个面进行充分的清洗，提升清洗机构对半导体加工件清洗的速度和洁净度。

本实用新型一种半导体蚀刻后清洗装置在权利要求书中公布了：1.一种半导体蚀刻后清洗装置，包括清洗机构（1）和调节机构（4），所述清洗机构（1）内部固定连接有翻转机构（2），所述翻转机构（2）上部安装有限位机构（3），所述清洗机构（1）包括操作台（11）和清洗供水管组件（18），所述操作台（11）表面固定连接有储水箱（12），所述储水箱（12）上部固定连接有废液收集箱（13），所述废液收集箱（13）上部固定连接有放置板（14），所述清洗供水管组件（18）一端固定连接有供水泵，所述供水泵安装在储水箱（12）内部，所述清洗供水管组件（18）另一端固定连接有出水管（19），所述出水管（19）底部固定连接有喷头（110），所述调节机构（4）与操作台（11）内壁固定连接，且调节机构（4）下部与出水管（19）固定连接，其特征在于：所述翻转机构（2）包括安装架（21）、同步带（23）和步进电机（25），所述安装架（21）表面分别转动连接有一号同步轮（22）和二号同步轮（24），所述二号同步轮（24）位于一号同步轮（22）上方，所述同步带（23）分别与一号同步轮（22）和二号同步轮（24）活动连接，所述步进电机（25）安装在安装架（21）侧面，且步进电机（25）输出端与一号同步轮（22）固定连接，所述二号同步轮（24）一端固定连接有连接架（26），所述连接架（26）表面安装有限位机构（3）。

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