清华大学刘礼晨获国家专利权
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龙图腾网获悉清华大学申请的专利一种原位生长的PEMEC阳极及其制备方法与其在PEM制氢中的应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119265597B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411254804.4，技术领域涉及：C25B11/031；该发明授权一种原位生长的PEMEC阳极及其制备方法与其在PEM制氢中的应用是由刘礼晨;何峰;杨福源;杨明烨设计研发完成，并于2024-09-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种原位生长的PEMEC阳极及其制备方法与其在PEM制氢中的应用在说明书摘要公布了：本发明提供了一种原位生长的PEMEC阳极及其制备方法与其在PEM制氢中的应用。上述制备方法包括：将Ti基底浸泡于刻蚀试剂溶液中，得到Ti‑F基底；将Ti‑F基底置于碱性溶液中进行水热反应，得到Ti‑OH基底；将金属源涂覆于Ti‑OH基底表面，经过干燥、煅烧，得到原位生长的PEMEC阳极。本发明还提供了上述方法制备的原位生长的PEMEC阳极及其在PEM制氢中的应用。本发明采用温和的条件对载体进行活化，将Ti基底表面惰性的TiO2薄膜变成活性的Ti‑OH物种，以此实现Ti基底载体与铱、金等金属催化层之间的化学成键，增强了载体与催化层间的相互作用，有效提高阳极的稳定性。
本发明授权一种原位生长的PEMEC阳极及其制备方法与其在PEM制氢中的应用在权利要求书中公布了：1.一种原位生长的PEMEC阳极的制备方法，其包括以下步骤： 将Ti基底在室温下浸泡于刻蚀试剂溶液中，然后取出清洗并干燥，得到Ti-F基底；其中，所述刻蚀试剂选自氟化氢铵和或氢氟酸，所述刻蚀试剂溶液的浓度为0.01-0.1molL，所述刻蚀试剂溶液的用量为每100mg所述Ti基底使用35-40mL所述刻蚀试剂溶液； 将Ti-F基底置于碱性溶液中进行水热反应，然后取出清洗并干燥，得到Ti-OH基底； 将金属源涂覆于Ti-OH基底表面，经过干燥、煅烧，得到原位生长的PEMEC阳极； 其中，所述碱性溶液的浓度为0.1-2.0M。
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