重庆芯联微电子有限公司林英乔获国家专利权
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龙图腾网获悉重庆芯联微电子有限公司申请的专利一种半导体处理设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223193766U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422123859.3，技术领域涉及：H01L21/67；该实用新型一种半导体处理设备是由林英乔设计研发完成，并于2024-08-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种半导体处理设备在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种半导体处理设备，包括：工艺腔室、基座、隔离闸门以及微粒吸收装置；还包括第一抽气管路以及抽气干泵；所述隔离闸门关闭时通过密封件使工艺腔室密封；所述微粒吸收装置设置于工艺腔室内，吸气口朝向门口；所述微粒吸收装置通过工艺腔室下方开口，经设有电磁开关的第二抽气管路连通到抽气干泵，利用抽气的原理及时吸走密封件因老化或腐蚀造成的污染颗粒；晶圆正在进行处理加工时，所述微粒吸收装置不工作；生产完成后，所述微粒吸收装置经电脑程式控制，在隔离闸门开关时开始运行工作，将密封件反应逸散出的污染颗粒向下抽离于工艺腔室，避免颗粒后续附着于芯片上，从而保证芯片的良率。
本实用新型一种半导体处理设备在权利要求书中公布了：1.一种半导体处理设备，其特征在于，包括工艺腔室1、基座2、隔离闸门3以及微粒吸收装置4，所述工艺腔室1侧边设有进气口，用于通入工艺反应所用的特殊气体，下方设有出气口，实现气体流通，所述工艺腔室1还设有门口用于供晶圆进出；所述基座2位于所述工艺腔室1内，用于放置晶圆；所述隔离闸门3与所述门口关闭时通过密封件使其密封；所述微粒吸收装置4设置于所述工艺腔室1内侧，所述微粒吸收装置4的吸气口朝向门口。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人重庆芯联微电子有限公司，其通讯地址为：401332 重庆市沙坪坝区西永街道西永大道28-2号SOHO楼601-A153；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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