华虹半导体(无锡)有限公司闫帅臣获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉华虹半导体(无锡)有限公司申请的专利静电吸附基座的微粒去除系统获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223193796U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422123896.4，技术领域涉及：H01L21/683；该实用新型静电吸附基座的微粒去除系统是由闫帅臣;高峰;曾军设计研发完成，并于2024-08-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本静电吸附基座的微粒去除系统在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种静电吸附基座的微粒去除系统，包括：静电吸附基座，其设置于等离子体设备的工作腔室内，其用于当等离子体设备工作时通过其固定晶圆，等离子体设备为刻蚀设备、CVD设备或PVD设备，等离子体设备包括所述工作腔室和晶圆存储腔室，工作腔室用于当等离子体设备工作时对晶圆进行刻蚀或沉积薄膜，晶圆存储腔室用于存储待刻蚀或沉积薄膜的晶圆；机械臂，其设置于工作腔室内，其用于当等离子体设备工作时通过其将存储腔室中的晶圆运送至静电吸附底座，机械臂包括驱动杆和载片平台，驱动杆用于通过其驱动载片平台运动，载片平台用于在运送晶圆时承载晶圆，载片平台下方具有出气孔，其用于通过其流出气体以吹扫静电吸附基座上的微粒。
本实用新型静电吸附基座的微粒去除系统在权利要求书中公布了：1.一种静电吸附基座的微粒去除系统，其特征在于，包括： 静电吸附基座，所述静电吸附基座设置于等离子体设备的工作腔室内，所述静电吸附基座用于当所述等离子体设备工作时通过其固定晶圆，所述等离子体设备为刻蚀设备、CVD设备或PVD设备，所述等离子体设备包括所述工作腔室和晶圆存储腔室，所述工作腔室用于当所述等离子体设备工作时对晶圆进行刻蚀或沉积薄膜，所述晶圆存储腔室用于存储待刻蚀或沉积薄膜的晶圆； 机械臂，所述机械臂设置于所述工作腔室内，所述机械臂用于当所述等离子体设备工作时通过其将所述存储腔室中的晶圆运送至静电吸附底座，所述机械臂包括驱动杆和载片平台，所述驱动杆用于当所述等离子体设备工作时通过其驱动所述载片平台运动，所述载片平台用于在运送晶圆时承载所述晶圆，所述载片平台下方具有出气孔，所述出气孔用于当所述等离子体设备工作时，通过其流出气体以吹扫所述静电吸附基座上的微粒。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人华虹半导体(无锡)有限公司，其通讯地址为：214028 江苏省无锡市新吴区新洲路30号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由AI智能生成
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号