华虹半导体(无锡)有限公司左苏楠获国家专利权
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龙图腾网获悉华虹半导体(无锡)有限公司申请的专利湿法清洗装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223193760U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421683991.3，技术领域涉及：H01L21/67；该实用新型湿法清洗装置是由左苏楠;胡新建;李春元;王泽飞设计研发完成，并于2024-07-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本湿法清洗装置在说明书摘要公布了：本申请提供一种湿法清洗装置，包括：承载单元、旋转工作台、晶圆夹持组件、导流装置、去离子水喷嘴、去离子水回收装置和药液回收装置，导流装置包括：导流面和侧面挡板，该导流面包括：第一倾斜面和第二倾斜面，第一倾斜面、第二倾斜面和侧面挡板构成一钝角导流通道，该钝角导流通道面向晶圆夹持组件的底部。本申请通过在晶圆夹持组件的底部设置一导流装置，能够回收漏入晶圆夹持组件与晶圆间缝隙的去离子水并且能够改变这部分去离子水的飞射路径，可以抬高去离子水离开承载单元的飞射角度，使得去离子水完全落入去离子水回收装置中，避免了污染药液的情况，提高了药液的循环使用寿命，保证了后续湿法刻蚀工艺的稳定性本，降低了生产成本。
本实用新型湿法清洗装置在权利要求书中公布了：1.一种湿法清洗装置，其特征在于，包括：承载单元、旋转工作台、至少六个晶圆夹持组件、至少六个导流装置、去离子水喷嘴、呈环形的去离子水回收装置和呈环形的药液回收装置，其中， 所述承载单元设于所述旋转工作台上，所述晶圆夹持组件均匀地安装在所述承载单元的边缘，一所述导流装置安装在一所述晶圆夹持组件的底部，所述去离子水喷嘴设置于所述承载单元的上方，所述去离子水回收装置和所述药液回收装置分别环绕所述旋转工作台设置，所述药液回收装置比所述去离子水回收装置更靠近所述旋转工作台； 所述导流装置包括：导流面和侧面挡板，所述侧面挡板设于所述导流面侧，所述导流面包括：第一倾斜面和第二倾斜面，所述第一倾斜面、所述第二倾斜面和所述侧面挡板构成一钝角导流通道，所述钝角导流通道面向所述晶圆夹持组件的底部。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人华虹半导体(无锡)有限公司，其通讯地址为：214028 江苏省无锡市新吴区新洲路30号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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