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龙图腾网获悉成都诺为光科科技有限公司申请的专利基于反射光子数量的晶圆表面胶平整度检测方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118640835B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410666742.1，技术领域涉及：G01B11/30；该发明授权基于反射光子数量的晶圆表面胶平整度检测方法及系统是由冯龄;蓝香露;李鄢;何仁杰;熊杰设计研发完成，并于2024-05-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于反射光子数量的晶圆表面胶平整度检测方法及系统在说明书摘要公布了：本发明提供一种基于反射光子数量的晶圆表面胶平整度检测方法，包括检测仪光路垂直校准；检测仪对晶圆标样逐点扫描，捕获每一点的反射光子并统计数量，获取判断阈值参数；检测仪对待测晶圆逐点扫描，捕获每一点的反射光子并统计数量，获取合格判断参数；判断异常区域并统计异常区域数量，设待测晶圆的异常区域允许值、合格允许偏差和合格判断算法；基于判断阈值参数、合格判断参数、异常区域数量、异常区域允许值、合格允许偏差和合格判断算法，判断待测晶圆表面胶平整度是否合格。解决了现有技术中因通过拍照和图像处理技术对晶圆表面胶平整度进行检测，导致检测精度无法达到检测标准和获取的照片不能用来判断晶圆表面光刻胶是否平整的技术问题。

本发明授权基于反射光子数量的晶圆表面胶平整度检测方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种基于反射光子数量的晶圆表面胶平整度检测方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤： 对检测仪进行光路垂直校准，保证所述检测仪的检测光源的光路垂直于晶圆放置平面； 控制所述检测仪以第一设备参数对与待测晶圆具有相同光刻胶工艺的晶圆标样进行逐点扫描，并捕获所述晶圆标样上每一点的第一反射光子，基于所述晶圆标样上每一点的所述第一反射光子的数量，获取判断阈值参数，其中，所述判断阈值参数包括第一反射光子数最大值、第一反射光子数最小值、第一反射光子数平均值以及第一反射光子数标准偏差； 控制所述检测仪以所述第一设备参数对待测晶圆进行逐点扫描，并捕获所述待测晶圆上每一点的第二反射光子，基于所述待测晶圆上每一点的所述第二反射光子的数量，获取合格判断参数，其中，所述合格判断参数包括第二反射光子数最大值、第二反射光子数最小值、第二反射光子数平均值以及第二反射光子数标准偏差； 根据所述判断阈值参数和所述待测晶圆的每一点的所述第二反射光子的数量判断所述待测晶圆的异常区域，并统计所述异常区域的数量； 设置所述待测晶圆的异常区域允许值、合格允许偏差以及合格判断算法；其中，所述异常区域允许值表示所述待测晶圆上允许存在的异常区域的数量的最大值； 基于所述判断阈值参数、合格判断参数、异常区域的数量、异常区域允许值、合格允许偏差以及所述合格判断算法，判断所述待测晶圆表面胶平整度是否合格，其中，所述合格判断算法包括： 当所述第二反射光子数最大值小于所述第一反射光子数最大值、所述第二反射光子数最小值大于所述第一反射光子数最小值以及所述第二反射光子数标准偏差与所述第一反射光子数标准偏差之差的绝对值小于所述合格允许偏差时，所述待测晶圆表面胶平整度合格；和 当所述第二反射光子数最大值大于所述第一反射光子数最大值或和所述第二反射光子数最小值小于所述第一反射光子数最小值时，且当所述第二反射光子数标准偏差与所述第一反射光子数标准偏差之差的绝对值小于所述合格允许偏差、所述第二反射光子数平均值与所述第一反射光子数平均值之差的绝对值小于所述合格允许偏差以及所述异常区域的数量小于所述异常区域允许值时，所述待测晶圆表面胶平整度合格。

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