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龙图腾网获悉拓荆科技(上海)有限公司申请的专利一种沉积工艺的送气设备、送气方法及其处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117448782B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311587901.0，技术领域涉及：C23C16/448；该发明授权一种沉积工艺的送气设备、送气方法及其处理装置是由刘佳臻;柴雪;李晶;王政设计研发完成，并于2023-11-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种沉积工艺的送气设备、送气方法及其处理装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种沉积工艺的送气设备、送气方法及其处理装置。送气设备包括：载气源，通过管路连接前驱体源，用以向反应腔送入前驱体源，以使前驱体源沉积在晶圆表面；以及第一气体切换装置，其输入端连接反应气源和第一保护气源，输出端连接反应腔，其中，第一气体切换装置在晶圆表面沉积前驱体源时，将第一保护气体通入反应腔，并在晶圆表面完成前驱体源的沉积操作后，切换反应气源和所述第一保护气源，将反应气体通入反应腔，以执行沉积工艺的后续步骤。通过上述送气设备，不仅能够避免切换气体的瞬间发生反流情况，并且还能够在沉积工艺中提升前驱体源的分压，从而增加前驱体源的沉积速率，提升整个沉积工艺的工艺产能。

本发明授权一种沉积工艺的送气设备、送气方法及其处理装置在权利要求书中公布了：1.一种沉积工艺的送气设备，其特征在于，包括： 载气源，通过管路连接前驱体源，用以向反应腔送入所述前驱体源，以使所述前驱体源沉积在晶圆表面；以及 第一气体切换装置，其输入端连接反应气源和第一保护气源，输出端连接所述反应腔； 所述第一保护气源，在载气载带所述前驱体源送入所述反应腔中进行所述晶圆表面沉积所述前驱体源时，经由所述第一气体切换装置将第一保护气体从反应气体的管路中通入所述反应腔，所述第一保护气体的通入流量小于所述反应气体的通入流量； 所述反应气源，在所述晶圆表面完成所述前驱体源的沉积操作后，经由所述第一气体切换装置切换所述第一保护气源到所述反应气源，将反应气体通入所述反应腔，以执行所述沉积工艺的后续步骤；以及 第二保护气源，用以在所述晶圆表面完成所述前驱体源的沉积操作后，经由第二气体切换装置，切换所述载气源和所述第二保护气源，将第二保护气体通入以吹扫所述前驱体源的后端，其中，所述第二气体切换装置设置于所述前驱体源的前端，其输入端连接所述载气源和第二保护气源，输出端通往所述反应腔。

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