清华大学张政军获国家专利权
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龙图腾网获悉清华大学申请的专利柔性透光表面增强拉曼基底及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116539588B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310529285.7，技术领域涉及：G01N21/65；该发明授权柔性透光表面增强拉曼基底及其制备方法是由张政军;郑元昊;王炜鹏设计研发完成，并于2023-05-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本柔性透光表面增强拉曼基底及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种表面增强拉曼基底及其制备方法。表面增强拉曼基底包括：活性纳米结构，所述活性纳米结构呈阵列排布以形成阵列薄膜；以及衬底，所述衬底形成于所述阵列薄膜的一侧；并且，所述衬底源自于高分子材料，至少部分所述高分子材料渗入所述活性纳米结构的孔隙中并包覆在所述阵列薄膜的表面。本发明的柔性透光表面增强拉曼基底利用高分子化合物对对活性纳米结构的部分包覆可以减缓活性纳米结构在大气条件下的氧化及硫化，从而提高基底的时间稳定性；进一步地，本发明通过使用高分子化合物形成的高分子膜，作为活性纳米结构的衬底，使表面增强拉曼基底具有弯折、伸展特性，在形状复杂的表面仍便于进行样品获取。
本发明授权柔性透光表面增强拉曼基底及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种表面增强拉曼基底，其特征在于，包括： 活性纳米结构，所述活性纳米结构呈阵列排布以形成阵列薄膜；以及 衬底，所述衬底形成于所述阵列薄膜的一侧；并且， 所述衬底源自于高分子材料，至少部分所述高分子材料渗入所述活性纳米结构的孔隙中并包覆在所述阵列薄膜的表面； 所述活性纳米结构的长度为200-500nm；所述活性纳米结构与所述衬底呈垂直分布或者相对于所述衬底呈倾斜角度分布； 所述高分子材料包括含氟高分子材料中的一种或两种以上的组合。
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