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龙图腾网获悉西安电子科技大学申请的专利一种等离子体射流腔室处理系统及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116456566B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310438006.6，技术领域涉及：H05H1/00；该发明授权一种等离子体射流腔室处理系统及方法是由徐晗;魏子棚;邵明绪;谢楷设计研发完成，并于2023-04-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种等离子体射流腔室处理系统及方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种等离子体射流腔室处理系统及方法，处理系统包括内部中空的主箱体和副箱体，主箱体位于副箱体的上方，主箱体和副箱体之间安装有能够水平移动的承载板，使得主箱体和副箱体上下连通或者阻隔；主箱体内安装有搅拌模块，搅拌模块包括纵向设置的主轴，主轴底部设有主扇叶；主模块安装于主轴的内部，产生等离子体射流由上至下喷射；承载板顶面呈环形均匀设有多个副模块，产生的等离子体射流由下至上垂直于主扇叶的叶面。本发明提高了等离子体的射流强度，增大了等离子体与废弃物的接触面积，提高了消杀效果。

本发明授权一种等离子体射流腔室处理系统及方法在权利要求书中公布了：1.一种等离子体射流腔室处理系统，包括内部中空的主箱体（1）和副箱体（2），其特征在于，主箱体（1）位于副箱体（2）的上方，主箱体（1）和副箱体（2）之间安装有能够水平移动的承载板（6），使得主箱体（1）和副箱体（2）上下连通或者阻隔； 所述主箱体（1）内安装有搅拌模块（5），搅拌模块（5）包括纵向设置的主轴（8），主轴（8）底部设有主扇叶（11）；主模块（10）安装于主轴（8）的内部，主模块（10）产生等离子体射流由上至下喷射； 所述承载板（6）顶面呈环形均匀设有多个副模块（15），副模块（15）产生的等离子体射流由下至上垂直于主扇叶（11）的叶面； 所述承载板（6）的内部设有第一气道（16），承载板（6）下方中央设有第一气泵（17），气体从中央沿第一气道（16）通往均布的副模块（15）； 所述主箱体（1）的内顶部设有盖板导向槽（22），凹槽形的盖板导向槽（22）关于主轴（8）对称；盖板导向槽（22）的底部为弧形，以主轴（8）为中心，由外部到中心曲率逐渐增大；盖板导向槽（22）的尺寸与副模块（15）的尺寸相匹配；所述承载板（6）的顶面、与主模块（10）对应的位置设有承载板导向槽（23），承载板导向槽（23）为半球形凹坑； 所述主模块（10）喷出的气体与承载板导向槽（23）碰撞后使气体反向，水平方向使气体向外辐射，使得气体围绕主轴（8）向上流动；主模块（10）尾部的气泵室（26）位于顶板内部，气泵室（26）通过第二气道（25）与主箱体（1）的内部空腔连通；副模块（15）喷出的气体从下部倾斜喷出，带动主扇叶（11）转动，同时向上流动，一部分气体从第二气道（25）进入气泵室（26），经主模块（10）再次处理；另一部分气体与盖板导向槽（22）发生碰撞后，在竖直方向使气体反向，水平方向使气体向内聚拢，围绕着主轴（8）向下流动。

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