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龙图腾网获悉苏州迈为科技股份有限公司申请的专利动态镀膜装置及其动态镀膜方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115976485B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211632285.1，技术领域涉及：C23C14/56；该发明授权动态镀膜装置及其动态镀膜方法是由张永胜;解传佳;武瑞军;彭孝龙;杨肸曦设计研发完成，并于2022-12-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本动态镀膜装置及其动态镀膜方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种动态镀膜装置及其动态镀膜方法，动态镀膜装置包括控制模块及沿第一方向依次排布的缓冲腔、过渡腔及镀膜腔，过渡腔包括至少三个检测元件，相邻两个检测元件限定出一过渡区间，过渡区间内设有一驱动机构，驱动机构具有工艺速度、传动速度及极限速度；控制模块与检测元件、驱动机构通信连接，用于在靠近镀膜腔的检测元件检测到前一基片远离镀膜腔的尾部离开时控制驱动机构加速至传动速度，且靠近镀膜腔的检测元件检测到后一基片靠近镀膜腔的头部开始离开时控制驱动机构降速至工艺速度；多次追赶的加速度和传动速度较小，降低基片碎片率，缩短相邻基片的间距，实现20mm以下间距连续镀膜，减少靶材浪费，提升镀膜工艺稳定性及产品良率。

本发明授权动态镀膜装置及其动态镀膜方法在权利要求书中公布了：1.一种动态镀膜装置，用于连续镀膜多个基片，其特征在于，包括控制模块及沿第一方向依次排布的缓冲腔、过渡腔及镀膜腔，所述缓冲腔和所述过渡腔之间设置有门阀，其中： 沿所述第一方向，所述过渡腔的长度大于所述基片； 所述过渡腔包括沿所述第一方向排布的至少三个检测元件，其中，一个检测元件靠近所述缓冲腔设置,用于检测基片是否进入过渡腔中，剩余检测元件靠近所述镀膜腔设置，用于检测所述基片信息以便反馈追赶信号，且相邻两个所述检测元件限定出一过渡区间，所述过渡区间内设有驱动机构，所述驱动机构具有可调的传动速度，且所述传动速度不小于基片在镀膜腔中工艺速度，以便实现相邻基片之间的追赶操作；所述过渡腔沿所述第一方向设有第一检测元件、第二检测元件和第三检测元件，所述第一检测元件用于检测所述基片是否完全进入过渡腔室中，所述第二检测元件和第三检测元件用于检测所述基片的信息，并将所述基片的信息作为所述基片追赶的判断信息； 所述控制模块与所述检测元件、所述驱动机构通信连接；相邻两个所述基片在一个所述过渡区间内时，所述控制模块用于在靠近所述镀膜腔的检测元件检测到前一基片的尾部离开时，控制所述驱动机构加速至所述传动速度，后一个基片随之加速并以所述传动速度在所述过渡区间内传送，且上述检测元件检测到后一基片的头部时，所述控制模块控制所述驱动机构降速至工艺速度，完成一次追赶； 后一基片执行多次追赶行程后与前一基片之间固定间距在所述镀膜腔进行镀膜操作； 沿所述第一方向，相邻两个所述过渡区间中,远离所述镀膜腔的前一过渡区间的传动速度大于等于靠近所述镀膜腔的后一过渡区间的传动速度。

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