格芯新加坡私人有限公司Y·塞蒂亚万获国家专利权
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龙图腾网获悉格芯新加坡私人有限公司申请的专利散热结构获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116266493B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211607439.1,技术领域涉及:H01C7/00;该发明授权散热结构是由Y·塞蒂亚万;H·莱恩维希;蔡筱丽设计研发完成,并于2022-12-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本散热结构在说明书摘要公布了:本公开涉及半导体结构,更特别地,涉及散热结构及其制造方法。该结构包括:薄膜电阻器,其位于后段制程结构内;以及散热结构,其位于薄膜电阻器下方,该散热结构包括具有开槽配置并位于后段制程结构内的顶板。
本发明授权散热结构在权利要求书中公布了:1.一种半导体结构,包括: 薄膜电阻器,其位于后段制程结构内; 位于所述薄膜电阻器下方的散热结构,其包括具有开槽配置并且位于所述后段制程结构内的顶板;以及 连接到所述薄膜电阻器的多个过孔连接,所述过孔连接位于所述顶板的所述开槽配置的槽上方且与所述槽对齐。
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