西安应用光学研究所吉晓获国家专利权
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龙图腾网获悉西安应用光学研究所申请的专利用于光电系统校准的反射靶标、校准方法及靶标制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115752506B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211369748.X，技术领域涉及：G01C25/00；该发明授权用于光电系统校准的反射靶标、校准方法及靶标制备方法是由吉晓;成刚;康臻;段园园;宋一兵;桑鹏设计研发完成，并于2022-11-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于光电系统校准的反射靶标、校准方法及靶标制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种用于光电系统校准的反射靶标、校准方法及反射靶标制备方法，反射靶标包括基板及设置在基板上的反射靶材，所述的反射靶材由重量比为15‑25份的上转换材料粉、50‑70份的氧化铝粉和15‑25份的导热胶混合后烧结而成；反射靶标在受到1μm激光照射后，上转换材料发出可见光，用于可见光像机的轴向校准，同时激光到反射靶标后因温升达到数十度至百度，激光照射位置同时产生红外谱，对红外热像仪进行轴向标校，故一只反射靶标在一次照射中方便实现了激光测距机、可见光摄像机和红外热像仪的光轴轴向校准，该反射靶和同类产品相比，具有高硬度、抗激光损伤、高导热、光斑弥散小的优点，满足在线自校和工程测试的要求。
本发明授权用于光电系统校准的反射靶标、校准方法及靶标制备方法在权利要求书中公布了：1.一种用于光电系统校准的反射靶标，其特征在于，包括基板及设置在基板上的反射靶材，所述的反射靶材由重量比为15-25份的上转换材料粉、50-70份的氧化铝粉和15-25份的导热胶混合后烧结而成； 所述反射靶材为厚度为2-3mm、直径为10-20mm的圆形靶材； 所述反射靶材的中心加工有十字刻线，十字刻线的深度为0.5-1mm； 所述基板为铝板，反射靶材通过导热胶粘接在基板上； 所述上转换材料为稀土上转换发光材料NaYF4； 所述的光电系统包括光轴平行设置的激光测距机、可见光摄像机和红外热像仪；激光测距机发射激光到设定距离外布置的反射靶标，反射靶标的上转换材料发出可见光，用于可见光摄像机的光轴校准。
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