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龙图腾网获悉徐州威聚电子材料有限公司申请的专利一种清洗半导体硅片的装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115472544B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211242674.3，技术领域涉及：H01L21/677；该发明授权一种清洗半导体硅片的装置是由李炜;王看看设计研发完成，并于2022-10-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种清洗半导体硅片的装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种清洗半导体硅片的装置，具体涉及半导体硅片清洗技术领域，包括安装顶架和支撑底框，所述支撑底框的顶端固定安装有隔物机构，所述安装顶架的底端固定安装有第一运输机构，本发明，通过设置隔物机构、置物机构和清洗组件并配合使用第一运输机构，可同步将多个半导体硅片分别自动移至单独的清洗空间，对对每个半导体硅片进行单独高速转动清洗，防止每个半导体硅片之间出现交叉污染，从而提升半导体硅片的清洗质量，且通过设置第二运输机构配合使用清理组件，对自动传动的半导体硅片进行自动物理擦拭清理，进一步提升了半导体硅片的清洗效果。

本发明授权一种清洗半导体硅片的装置在权利要求书中公布了：1.一种清洗半导体硅片的装置，包括安装顶架（1）和支撑底框（2），其特征在于：所述支撑底框（2）的顶端固定安装有隔物机构（3），所述安装顶架（1）的底端固定安装有第一运输机构（4），所述第一运输机构（4）的底端固定安装有和隔物机构（3）配合使用的置物机构（5），所述安装顶架（1）底端靠近支撑底框（2）的一侧中间位置固定安装有第一升降杆（6），所述第一升降杆（6）的驱动端固定安装有和隔物机构（3）、置物机构（5）配合使用的清洗组件（7），所述支撑底框（2）的一侧固定安装有第二运输机构（8），所述第二运输机构（8）的顶端安装有清理组件（9）； 所述隔物机构（3）包括隔物卡架（31），所述隔物卡架（31）固定安装在支撑底框（2）的顶端，所述隔物卡架（31）上固定卡设有等距离分布的四个隔物件（32），所述隔物件（32）包括缓液底框（33），所述缓液底框（33）固定卡接在隔物卡架（31）上，所述缓液底框（33）的顶端固定安装有对称分布的两个第一隔物侧框（34），两个所述第一隔物侧框（34）的相对侧底部固定安装有第一支撑架（35），两个所述第一支撑架（35）的相对侧均一体成型有卡条（351），两个所述第一支撑架（35）之间转动卡设有置物底盘（36），所述置物底盘（36）转动卡接在卡条（351）上，所述置物底盘（36）的上表面固定连接有防护垫圈（361），两个所述隔物卡架（31）的顶部均固定卡设有倾斜设置的第一伸缩杆（38），所述第一伸缩杆（38）的驱动端均固定安装有定位块（39），所述定位块（39）的底端滚动卡设有橡胶球珠（391）。

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