株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社冢田伸治获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社申请的专利盘装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115132234B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110907721.0，技术领域涉及：G11B25/04；该发明授权盘装置是由冢田伸治设计研发完成，并于2021-08-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本盘装置在说明书摘要公布了：实施方式提供能够抑制磁头相对于记录介质的定位精度的下降的盘装置。一个实施方式的盘装置具备多个记录介质、多个磁头、扰流器及壳体。所述记录介质分别具有记录面，能够绕着在与所述记录面交叉的轴向上延伸的旋转轴旋转，在所述轴向上排列。所述磁头构成为对所述多个记录介质读写信息。所述扰流器具有位于设置于所述多个记录介质之间的多个间隙的多个第1叶片。所述壳体设置有收容所述多个记录介质、所述多个磁头及所述扰流器的内室。所述多个第1叶片的数量比所述多个间隙的数量少。
本发明授权盘装置在权利要求书中公布了：1.一种盘装置，具备： 多个记录介质，分别具有记录面，能够绕着在与所述记录面交叉的轴向上延伸的旋转轴旋转，在所述轴向上排列； 多个磁头，构成为对所述多个记录介质读写信息； 扰流器，具有位于设置于所述多个记录介质之间的多个间隙的多个第1叶片；及 壳体，设置有收容所述多个记录介质、所述多个磁头及所述扰流器的内室， 所述多个第1叶片的数量比所述多个间隙的数量少， 所述多个记录介质包括在所述轴向上排列的多个第1记录介质和从所述多个第1记录介质在所述轴向上离开的至少一个第2记录介质， 所述多个第1记录介质及所述至少一个第2记录介质分别具有绕着所述旋转轴延伸的外缘， 所述扰流器具有朝向所述多个第1记录介质的所述外缘的侧面， 所述多个第1叶片从所述侧面突出，位于所述多个间隙中的设置于所述多个第1记录介质之间的多个第1间隙，且位于所述多个间隙中的设置于所述多个第1记录介质与所述至少一个第2记录介质之间的第2间隙之外， 所述壳体具有与所述侧面在所述轴向上排列且绕着所述旋转轴延伸并且朝向所述至少一个第2记录介质的所述外缘的第1内周面。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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