深圳中科飞测科技股份有限公司陈鲁获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳中科飞测科技股份有限公司申请的专利光学设备的聚焦方法及聚焦系统、设备和存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115540766B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110742515.9，技术领域涉及：G01B11/06；该发明授权光学设备的聚焦方法及聚焦系统、设备和存储介质是由陈鲁;郑策;马砚忠;张嵩设计研发完成，并于2021-06-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学设备的聚焦方法及聚焦系统、设备和存储介质在说明书摘要公布了：一种光学设备的聚焦方法及聚焦系统、设备和存储介质，所述光学设备包括光谱采集器，所述聚焦方法包括：获取参考光谱；通过所述光谱采集器采集待测物在不同测试聚焦高度下的测试光谱；获取各个所述测试光谱与所述参考光谱的光谱拟合参数值，所述光谱拟合参数值正相关于或负相关于所述测试光谱与所述参考光谱的误差值；根据所述光谱拟合参数值，提取使误差值最小的所述光谱拟合参数值对应的测试聚焦高度作为第一在焦高度。本发明采用光谱数据的光谱拟合参数值判断待测物是否在焦，从而进行聚焦调节，因此能够在不额外增加硬件模块例如，检焦模块的情况下，在保证聚焦精度的同时，提高聚焦效率。
本发明授权光学设备的聚焦方法及聚焦系统、设备和存储介质在权利要求书中公布了：1.一种光学设备的聚焦方法，其特征在于，所述光学设备包括光谱采集器，所述聚焦方法包括： 获取参考光谱； 通过所述光谱采集器采集待测物在不同测试聚焦高度下的测试光谱； 获取各个所述测试光谱与所述参考光谱的光谱拟合参数值，所述光谱拟合参数值正相关于或负相关于所述测试光谱与所述参考光谱的误差值； 根据所述光谱拟合参数值，提取使误差值最小的所述光谱拟合参数值所对应的测试聚焦高度，作为第一在焦高度； 获取所述参考光谱的步骤包括：提供样品与光相互作用的理论模型，所述理论模型用于表示光与所述样品作用后的出射光光谱与所述样品的物理参数之间的关系； 以所述待测物的物理参数作为所述样品的物理参数，根据所述理论模型获取出射光光谱，用于作为所述参考光谱； 所述聚焦方法还包括：根据所述第一在焦高度所对应的测试光谱，获取所述待测物的几何尺寸； 其中，所述待测物为待测膜层，所述几何尺寸包括所述待测膜层的厚度或线宽。
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