ASML荷兰有限公司K·范因根史奇劳获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利用于以基于缺陷的过程窗口为基础的校准模拟过程的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115104068B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180014721.6，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权用于以基于缺陷的过程窗口为基础的校准模拟过程的方法是由K·范因根史奇劳;A·史拉奇特;瓦迪姆·尤里耶维奇·季莫什科夫;M·库伊曼;玛丽亚-克莱尔·范拉尔;H·A·迪伦;斯蒂芬·亨斯克;路易斯·阿尔贝托·科利纳·圣玛丽亚·科琳娜;蒋爱琴;王富明;苏达沙南·拉格纳坦设计研发完成，并于2021-02-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于以基于缺陷的过程窗口为基础的校准模拟过程的方法在说明书摘要公布了：本文中描述关于改善与芯片的制造相关联的模拟过程和解决方案例如，重定目标图案的方法。方法包括获得多个剂量‑焦距设置、和基于与所述多个剂量‑焦距设置中的每个设置相关联的被印制的图案的特性的测量值的参考分布。所述方法还包括基于调整模型和所述多个剂量‑焦距设置来确定所述特性的概率密度函数PDF，使得减小所述PDF与所述参考分布之间的误差。所述PDF可以是所述调整模型和与剂量相关联的方差的函数，所述调整模型被配置成改变对所述PDF的非线性剂量敏感度贡献的比例。可以基于所述特性的所确定的PDF来调整过程窗口。
本发明授权用于以基于缺陷的过程窗口为基础的校准模拟过程的方法在权利要求书中公布了：1.一种用于调整光刻过程的过程窗口的方法，包括： 获得（i）多个剂量-焦距设置和（ii）基于与所述多个剂量-焦距设置中的每个设置相关联的被印制的图案的特性的测量值的参考分布； 基于调整模型和所述多个剂量-焦距设置，确定所述特性的概率密度函数（PDF），使得所述PDF与所述参考分布之间的误差减小，所述PDF是所述调整模型和与剂量相关联的方差的函数，所述调整模型被配置成改变对所述PDF的非线性剂量敏感度贡献的比例；以及 基于所述特性的所确定的PDF来调整与图案化过程相关联的过程窗口。
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