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龙图腾网获悉CKD株式会社申请的专利真空压力控制系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113062989B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011460261.3，技术领域涉及：F16K1/36；该发明授权真空压力控制系统是由早濑雄太郎设计研发完成，并于2020-12-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本真空压力控制系统在说明书摘要公布了：本发明涉及真空压力控制系统。在能够容易地计算为了使真空室的压力值为目标值而需要的真空控制阀的最佳阀开度的真空压力控制系统中，控制装置70包括映射程序702a，在进行压力值控制前，该映射程序702a使真空室11内的压力值与工艺气体的流量的关系近似于一次函数LF11～LF20，使一次函数LF11～LF20存储到控制装置70中，该控制装置70包括阀开度计算程序702b，在进行压力值控制前，在基于一次函数LF11～LF20供给工艺气体的规定的流量时，该阀开度计算程序702b计算为了使真空室11内的压力值为目标值Pt而需要的真空控制阀30的最佳阀开度VO，该控制装置70基于最佳阀开度VO来调整真空控制阀30的阀开度，由此能够进行控制以使真空室11内的压力值为目标值Pt。

本发明授权真空压力控制系统在权利要求书中公布了：1.一种真空压力控制系统，其以串联连接的方式包括：气体供给源；真空室，其从所述气体供给源接受气体的供给；真空控制阀，其用于调整所述真空室的压力值；以及真空泵，其用于对所述真空室进行减压，并且该真空压力控制系统包括：压力传感器，其检测所述真空室的压力值；以及控制装置，其控制所述真空控制阀，所述真空压力控制系统的特征在于，在从所述气体供给源向所述真空室以规定的流量供给气体时，所述控制装置基于由所述压力传感器检测出的压力值来进行所述真空控制阀的阀开度的调整，由此进行压力值控制，以使所述真空室的压力值为目标值， 在该真空压力控制系统中， 所述控制装置包括映射程序，在进行所述压力值控制前，该映射程序使所述真空室内的压力值与所述气体的流量的关系近似于一次函数，使所述一次函数存储到所述控制装置中， 所述控制装置包括阀开度计算程序，在进行所述压力值控制前，在基于所述一次函数供给所述气体的所述规定的流量时，该阀开度计算程序计算为了使所述真空室内的压力值为所述目标值而所需的所述真空控制阀的最佳阀开度， 所述控制装置基于所述最佳阀开度来调整所述真空控制阀的阀开度，由此能够进行控制以使所述真空室内的压力值为所述目标值， 其中，在进行所述压力值控制前、在所述规定的阀开度下将所述规定的流量的所述气体向所述真空室供给的状态下，所述阀开度计算程序利用所述压力传感器获取所述真空室内的第二压力测定值， 所述阀开度计算程序将所述第二压力测定值代入所述一次函数，由此计算所述气体的估计流量， 所述阀开度计算程序将所述目标值作为使截距为零的所述估计流量的一次函数，求取该一次函数的斜率，根据所述斜率求取所述规定的流量下的所述最佳阀开度。

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