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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司申请的专利用于缺陷分析的方法、设备、存储介质和缺陷分析系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114916237B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080003659.6，技术领域涉及：G06F30/398；该发明授权用于缺陷分析的方法、设备、存储介质和缺陷分析系统是由柴栋;兰天;吴昊晗;汤玥;沈国梁;袁菲设计研发完成，并于2020-12-03向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于缺陷分析的方法、设备、存储介质和缺陷分析系统在说明书摘要公布了：提供了一种用于缺陷分析的计算机实现的方法。计算机实现的方法包括：关于在制造周期期间出现的缺陷，分别针对多个装置操作，计算多个证据权重WOE分数，较高的WOE分数指示缺陷和装置操作之间的较高的相关性；以及将所述多个WOE分数排序，以获得与在所述制造周期期间出现的所述缺陷高度相关的所选择的装置操作的列表，所选择的装置操作的列表中的装置操作具有大于第一阈值分数的WOE分数。多个装置操作中的各个装置操作是由相应装置执行相应操作所处在的相应操作站点定义的相应装置。

本发明授权用于缺陷分析的方法、设备、存储介质和缺陷分析系统在权利要求书中公布了：1.一种用于缺陷分析的计算机实现的方法，包括： 获取制造周期期间与多个工艺设备相关的缺陷数据； 针对所述多个工艺设备，计算多个证据权重WOE分数，较高的WOE分数指示缺陷和工艺设备之间的较高的相关性；其中，根据等式1计算各个工艺设备的各个WOE分数： 其中，woei表示各个工艺设备的各个WOE分数；Pyi表示在各个工艺设备中的正样本的数目与在所有工艺设备中的正样本的数目的比；Pni表示在各个工艺设备中的负样本的数目与在所有工艺设备中的负样本的数目的比；所述正样本表示包括与各个工艺设备相关联的缺陷信息的数据；所述负样本表示其中不存在与各个工艺设备相关联的缺陷信息的数据；#yi表示在各个工艺设备中的正样本的数目；#yr表示在所有工艺设备中的正样本的数目；#ni表示在各个工艺设备中的负样本的数目；#nr表示所有工艺设备中的负样本的数目；以及 将所述多个WOE分数排序，以获得与在所述制造周期期间出现的所述缺陷相关的工艺设备列表，所述工艺设备列表中的工艺设备具有大于第一阈值分数的WOE分数， 其中，所述多个工艺设备中的各个工艺设备是由在特定工艺站点执行相应工艺的设备。

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