富士胶片株式会社汉那慎一获国家专利权
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龙图腾网获悉富士胶片株式会社申请的专利导电性图案的制造方法、触摸传感器、电磁波屏蔽件、天线、配线基板、导电性加热元件及结构体获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115210645B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080097837.6，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权导电性图案的制造方法、触摸传感器、电磁波屏蔽件、天线、配线基板、导电性加热元件及结构体是由汉那慎一设计研发完成，并于2020-11-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本导电性图案的制造方法、触摸传感器、电磁波屏蔽件、天线、配线基板、导电性加热元件及结构体在说明书摘要公布了：本发明提供一种导电性图案的制造方法及其应用，所述导电性图案的制造方法包括：准备层叠体的步骤，所述层叠体具有：透明基材，在上述透明基材上的遮光性图案，以及负型感光性树脂层，其配置在上述透明基材和上述遮光性图案上并且与上述透明基材接触；将光照射到上述透明基材的与上述遮光性图案相对向的面的相反一侧的面的步骤；通过将上述负型感光性树脂层显影，在由上述透明基材和上述遮光性图案划定的区域形成树脂图案的步骤；以及在上述遮光性图案上形成导电性图案的步骤。
本发明授权导电性图案的制造方法、触摸传感器、电磁波屏蔽件、天线、配线基板、导电性加热元件及结构体在权利要求书中公布了：1.一种导电性图案的制造方法，其包括： 准备层叠体的步骤，所述层叠体具有：透明基材、在所述透明基材上的遮光性图案、以及负型感光性树脂层，其配置在所述透明基材和所述遮光性图案上并且与所述透明基材接触； 将光照射到所述透明基材的与所述遮光性图案相对向的面的相反的一侧的面的步骤； 通过将所述负型感光性树脂层显影，在由所述透明基材和所述遮光性图案划定的区域形成树脂图案的步骤；以及 在所述遮光性图案上形成导电性图案的步骤， 所述树脂图案的平均厚度为10μm以上， 所述负型感光性树脂层包含碱可溶性高分子、具有烯属不饱和键的化合物以及光聚合引发剂， 所述具有烯属不饱和键的化合物包含具有双酚A结构的双官能烯属不饱和化合物， 所述光聚合引发剂包含选自2,4,5-三芳基咪唑二聚体和2,4,5-三芳基咪唑二聚体的衍生物中的至少一种。
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