富士胶片株式会社堀田吉则获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉富士胶片株式会社申请的专利结构体的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114207793B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080056543.9，技术领域涉及：H01L21/60；该发明授权结构体的制造方法是由堀田吉则设计研发完成，并于2020-07-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本结构体的制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种能够容易地与接合对象接合的结构体的制造方法。所述结构体的制造方法具有：导电层形成工序，在具有至少一个面的绝缘支撑体的表面上局部地形成具有导电性的导电层；阀金属层形成工序，形成覆盖导电层的至少一部分的阀金属层；阳极氧化膜形成工序，实施将导电层作为电极的阳极氧化处理而将阀金属层中导电层上的区域的阀金属层形成为阳极氧化膜；微孔形成工序，在阳极氧化膜中形成沿厚度方向延伸的多个微孔；及填充工序，向微孔中填充导电性物质，在阳极氧化膜形成工序与填充工序之间具有去除阳极氧化膜形成工序后的阀金属层的阀金属层去除工序。
本发明授权结构体的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种用于与对象物的接合的结构体的制造方法，其具有： 导电层形成工序，在具有至少一个面的绝缘支撑体的表面上之中的元件区域上形成具有导电性的导电层； 阀金属层形成工序，形成覆盖所述导电层的至少一部分的阀金属层； 阳极氧化膜形成工序，实施将所述导电层作为阴极的电极且将阀金属层作为阳极的电极的阳极氧化处理，不将所述阀金属层全部进行阳极氧化，而将所述阀金属层中所述导电层上的区域的所述阀金属层形成为阳极氧化膜； 微孔形成工序，在所述阳极氧化膜中形成沿厚度方向延伸的多个微孔；及 填充工序，向所述微孔中填充导电性物质， 在所述阳极氧化膜形成工序与所述填充工序之间具有去除所述阳极氧化膜形成工序后的未被进行阳极氧化而残留的所述阀金属层的阀金属层去除工序。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人富士胶片株式会社，其通讯地址为：日本国东京都；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号