ASML荷兰有限公司P·A·J·蒂内曼斯获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利用于确定衬底上的一个或更多个结构的特性的量测系统和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114993205B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210653171.9，技术领域涉及：G01B11/24；该发明授权用于确定衬底上的一个或更多个结构的特性的量测系统和方法是由P·A·J·蒂内曼斯;A·J·登博夫;A·E·A·科伦;N·潘迪;V·T·滕纳;W·M·J·M·考恩;帕特里克·沃纳阿设计研发完成，并于2018-09-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于确定衬底上的一个或更多个结构的特性的量测系统和方法在说明书摘要公布了：描述了一种用于确定与在衬底上的至少一个结构相关的感兴趣的特性的量测系统、和相关联的方法。所述量测系统包括处理器，所述处理器配置成根据被检测到的散射辐射的特性以计算的方式确定相位和振幅信息，作为在测量获取中用照射辐射来照射所述至少一个结构的结果，所述散射辐射已经被所述至少一个结构反射或散射，所述处理器配置成使用被确定的相位和振幅来确定感兴趣的特性。
本发明授权用于确定衬底上的一个或更多个结构的特性的量测系统和方法在权利要求书中公布了：1.一种量测设备，用于确定与在衬底上的至少一个结构相关的感兴趣的特性，所述量测设备包括： 照射分支，所述照射分支配置成引导照射辐射到所述衬底； 检测分支，所述检测分支配置成检测来自所述衬底上的所述至少一个结构的散射辐射；以及 处理器，所述处理器配置成： 在测量获取中以计算的方式确定来自所述散射辐射的电场的相位和振幅信息，和 在测量之后以计算的方式重新成像所述至少一个结构的测量获取以获得至少一个以计算的方式重新成像的图像，以及 在针对参数的多个不同的虚拟设定的测量之后，以计算的方式重新成像所述至少一个结构的所述测量获取，以获得多个以计算的方式重新成像的图像， 其中不使用结构模型来获得所述至少一个以计算的方式重新成像的图像。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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