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龙图腾网获悉上海邦芯半导体科技有限公司申请的专利等离子体处理设备及离子过滤调节方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120183998B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510659070.6，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权等离子体处理设备及离子过滤调节方法是由向浪;李可;王兆祥;梁洁;张翔宇;陈英杰;王亮设计研发完成，并于2025-05-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本等离子体处理设备及离子过滤调节方法在说明书摘要公布了：本公开涉及等离子体处理技术领域，提供等离子体处理设备及离子过滤调节方法，设备包括：等离子体发生腔；反应腔内设有载台；离子过滤件覆设于等离子体出口，电性连接于可调直流电压源并与所述等离子体发生腔之间保持绝缘；离子探测件环绕载台外周侧面中心对称地设置；离子探测件具有离子探测面；其中，离子探测件与电荷分析器连接，以基于所接收离子形成电流信号；控制单元，按照当前工艺情况，设置所述离子吸附电压的极性以吸附相反极性的离子，且根据所述电流值调节离子吸附电压的电压值大小。由此，实现根据工艺情况所来对应调节离子过滤件的离子过滤能力，以灵活满足多样化工艺需求，比如通过增加离子过滤能力来避免离子轰击导致的表面受损。

本发明授权等离子体处理设备及离子过滤调节方法在权利要求书中公布了：1.一种等离子体处理设备，其特征在于，包括： 等离子体发生腔，底部形成等离子体出口； 反应腔，位于所述等离子体发生腔下，并与所述等离子体出口连通；所述反应腔内设有用于承载被等离子体处理的产品的载台； 离子过滤件，覆设于所述等离子体出口并具有上下贯通的贯通部，电性连接于可调直流电压源并与所述等离子体发生腔之间保持绝缘，供被施加可调的离子吸附电压； 离子探测件，环绕所述载台外周侧面中心对称地设置；所述离子探测件与载台之间保持绝缘，并具有暴露于所述反应腔的离子探测面；其中，所述离子探测件与电荷分析器连接，以基于所接收离子形成电流信号；所述离子探测件与载台之间被绝缘层所分隔；所述离子探测件在设置绝缘层的一面以外的至少一个面形成离子探测面； 控制单元，耦合于所述电荷分析器及可调直流电压源，用于按照当前工艺情况下的离子过滤需求，设置所述离子吸附电压的极性以吸附相反极性的离子，且根据所述电流信号的电流值调节离子吸附电压的电压值大小； 所述根据所述电流值调节离子吸附电压的电压值大小，包括以下至少一种方式： （1）响应于所述电流值达到损伤风险阈值，调节所述离子吸附电压的电压值大小以加强离子过滤能力；其中，所述损伤风险阈值基于避免由离子轰击造成产品表面的损伤风险所设置； （2）响应于所述电流值达到低效指示阈值，调节所述离子吸附电压以减弱所述离子过滤能力；其中，所述低效指示阈值基于由离子轰击达成的表面处理效率所设置； 在采用方式（1）时，损伤风险阈值被设置为根据所述产品的表面测量信息预测得到的损伤风险满足预设损伤风险条件时对应的所述电流值；和或，在采用方式（2）时，低效指示阈值被设置为根据所述产品的表面测量信息得到的表面处理效率未满足要求时对应的所述电流值；和或，以所述产品的表面测量信息满足预设损伤风险条件低效处理条件时对应的所述电压值为增强或减弱所述离子过滤能力的参考值； 其中，所述损伤风险阈值的获取方式包括：若离子吸附电压被实施为负电压，用于吸附正离子；当离子探测件对应探测的电流信号的电流值升高达到第一损伤风险阈值时，则触发负相关地调节所述负电压；或者，离子吸附电压被实施为正电压，用于吸附负离子；当离子探测件对应探测的电流信号的为负的电流值减小达到第二损伤风险阈值时，则触发负相关地调节所述正电压；将探测到的电流值、离子表面测量数据以及标注的损伤风险标签作为训练数据输入到机器学习模型，以训练所述机器学习模型为损伤风险预测模型，根据输入的电流值及离子表面测量数据预测损伤风险；当损伤在损伤风险的取值范围内根据某个选定风险值来确定对应的电流值为所述第一损伤风险阈值、第二损伤风险阈值； 所述低效指示阈值的获取方式包括：将探测到的电流值、离子表面测量数据以及标注的效率评价得分标签作为训练数据输入到机器学习模型，以训练所述机器学习模型为效率预测模型；根据输入的电流值及离子表面测量数据预测效率得分，设定某个效率得分阈值所对应的电流值为低效指示阈值。

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