长沙麓邦光电科技有限公司田兴波获国家专利权
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龙图腾网获悉长沙麓邦光电科技有限公司申请的专利一种平板分束偏振薄膜及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120138591B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-08发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510608368.4,技术领域涉及:G02B5/30;该发明授权一种平板分束偏振薄膜及其制备方法是由田兴波;李湘;李晓春设计研发完成,并于2025-05-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种平板分束偏振薄膜及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明属于精密光学技术领域,具体涉及一种平板分束偏振薄膜及其制备方法。本发明采用膜系设计软件对平板分束偏振薄膜进行膜系设计,得到所述平板分束偏振薄膜的膜系设计结果;在基底的两个底面按照所述膜系设计结果分别进行镀制,在基底的两个底面分别得到所述平板分束偏振薄膜。本发明制备的平板分束偏振薄膜具有高消光比,消光比(ER=Tp:Ts)10000:1,能够有效分离入射光的p分量与s分量;且实际可调控波长范围宽(≥13nm),解决了光学薄膜存在消光比低、实际可调控波长范围较窄的技术问题。同时,本发明制备的平板分束偏振薄膜的信赖性测试结果均OK;且制备方法便于量产维护与批量化制备。
本发明授权一种平板分束偏振薄膜及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种平板分束偏振薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤: 采用膜系设计软件对平板分束偏振薄膜进行膜系设计,所述平板分束偏振薄膜由低折射率材料和高折射率材料交替层叠形成,得到所述平板分束偏振薄膜的膜系设计结果,所述膜系设计使用的初始膜堆如公式1所示: G00.5HL0.5HS0.5HLHL0.5H0.5HL0.5HSAIR公式1; 公式1中:G0表示基底,AIR表示入射介质,H表示高折射率材料,L表示低折射率材料,S表示“0.5HL0.5H”单元重复频次,S≥5; 所述高折射率材料为五氧化三钛;所述低折射率材料为二氧化硅,所述膜系设计的条件包括:入射角为45°;入射介质为空气;出射介质为紫外熔融石英;所述平板分束偏振薄膜的目标波段内p偏振光透过率设为100%,s偏振光透过率设为0,所述平板分束偏振薄膜的目标波段为400~2500nm;所述膜系设计软件包括TFCalc光学薄膜设计软件或EssentialMacleod光学薄膜设计软件;所述膜系设计结果包括高折射率材料的单层膜厚、低折射率材料的单层膜厚、高折射率材料的膜层数量、低折射率材料的膜层数量、总层数和总厚度; 在基底的两个底面按照所述膜系设计结果分别进行镀制,在基底的两个底面分别得到所述平板分束偏振薄膜。
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