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龙图腾网获悉杭州思密得科技有限公司申请的专利一种沉积镀膜系统获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223201903U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-08发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422795452.5，技术领域涉及：C23C14/24；该实用新型一种沉积镀膜系统是由方能斌;邵建雄;王楠;彼得·迪彭斯;马克·胡贝图斯·洛伦茨·范德维尔登;杰拉德·卡普尔;马丁·舒茨;李国祥;陈露;韩小林设计研发完成，并于2024-11-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种沉积镀膜系统在说明书摘要公布了：本实用新型属于沉积镀膜设备技术领域，涉及一种沉积镀膜系统，包括壳体以及设置壳体内的蒸气发生装置、喷头腔、喷嘴腔和蒸气输送管路，在喷头腔与喷嘴腔之间设置喷头孔相互连通，在喷嘴腔上设置喷嘴孔，基片的待沉积区域位于喷嘴孔外所在的镀膜区域内。在喷头孔内设置喷头匀气装置，在喷嘴孔内设置喷嘴匀气装置，在喷头匀气装置中设置有长方形的喷头匀气间隙，在喷嘴匀气装置中设置有长方形的喷嘴匀气间隙，喷头匀气间隙和喷嘴匀气间隙的长度方向分别与基片的沉积镀膜方向一致。本实用新型分别在喷头孔内设置匀气装置，在喷嘴孔内设置喷嘴匀气装置，对流经喷头孔和喷嘴孔的沉积材料蒸气进行均匀化处理，提高了基片表面沉积材料的均匀度。

本实用新型一种沉积镀膜系统在权利要求书中公布了：1.一种沉积镀膜系统，其特征在于，包括壳体（1），在壳体（1）内设置有至少一个将沉积材料蒸发成蒸气的蒸气发生装置、喷头腔（3）和喷嘴腔（4），以及将每个蒸气发生装置与喷头腔相互连通的蒸气输送管路（22），在喷头腔（3）与喷嘴腔（4）之间设置喷头孔（31）相互连通，在喷嘴腔（4）上正对喷头孔（31）的位置设置喷嘴孔（41），待沉积基片（A）位于喷嘴腔（4）的外部，基片（A）的待沉积区域位于喷嘴孔（41）所在的镀膜区域内；在喷头孔（31）下方设置多个喷头匀气装置（32），在喷嘴孔（41）内设置多个喷嘴匀气装置（42），在喷头匀气装置（32）中设置有长方形的喷头匀气间隙（33），在喷嘴匀气装置（42）中设置有长方形的喷嘴匀气间隙（43），喷头匀气间隙（33）和喷嘴匀气间隙（43）的长度方向分别与基片（A）的沉积镀膜方向一致。

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