江苏迈纳德微纳技术有限公司庄治平获国家专利权
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龙图腾网获悉江苏迈纳德微纳技术有限公司申请的专利一种避免石英管内壁镀膜的等离子体原子层沉积设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223201920U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-08发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422503290.3，技术领域涉及：C23C16/455；该实用新型一种避免石英管内壁镀膜的等离子体原子层沉积设备是由庄治平;刘永胜;段小刚设计研发完成，并于2024-10-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种避免石英管内壁镀膜的等离子体原子层沉积设备在说明书摘要公布了：本实用新型提供了一种避免石英管内壁前驱体源沉积的等离子体原子层沉积设备，包括等离子体发生器，真空腔体，插板阀和真空泵，其中，插板阀设置于等离子体发生器和真空腔体之间，通过在真空腔体和等离子体发生器中间增加大尺寸插板阀，杜绝了真空腔体中的前驱体源进入等离子体发生器内部的石英管，解决了前驱体源在石英管内部形成沉积物进而引发等离子体原子层沉积工艺不稳定、薄膜性能变差、设备维护成本较高的问题；同时考虑大尺寸插板阀在两边压差较大时可能损坏的问题，本方案将等离子体发生器与真空泵进行连接，并在中间增加隔膜阀，在插板阀关闭后打开隔膜阀，使得插板阀两边均与真空泵连接，解决插板阀两边较大压差损坏插板阀的问题。
本实用新型一种避免石英管内壁镀膜的等离子体原子层沉积设备在权利要求书中公布了：1.一种避免石英管内壁镀膜的等离子体原子层沉积设备，其特征在于，所述设备包括等离子体发生器4，真空腔体6，插板阀5和真空泵10；其中，插板阀5设置于等离子体发生器4和真空腔体6之间；真空腔体6与真空泵10通过第一管路9连接，等离子体发生器4上方通过第二管路3与真空泵10连通，并在第二管路3上加装隔膜阀2以控制插板阀5两端压差。
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