河南东微电子装备有限公司王东旭获国家专利权
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龙图腾网获悉河南东微电子装备有限公司申请的专利一种用于磁控溅射设备的溅射腔及磁控溅射方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119194386B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411394957.9，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权一种用于磁控溅射设备的溅射腔及磁控溅射方法是由王东旭;赵泽良;王永超设计研发完成，并于2024-10-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于磁控溅射设备的溅射腔及磁控溅射方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种用于磁控溅射设备的溅射腔及磁控溅射方法，涉及磁控溅射技术领域，溅射腔内设置有多块靶材，每块靶材的背部对应设置有一份磁铁组件，每份磁铁组件包括多块永磁铁，每份磁铁组件上的永磁铁组成多个同心的磁铁环，每个磁铁环内的永磁铁均同极设置，相邻两个磁铁环内的永磁铁的极性相反，作业时，每两个相邻磁铁环形成的磁场使靶材表面形成一条呈环形的刻蚀跑道；溅射腔内还设置有第一旋转轴，第一旋转轴与各磁铁组件连接，其带动各磁铁组件互换位置；有益效果在于：本方案能够使作用到靶材的磁场均匀性提高，减少刻蚀跑道的影S，增加靶材利用率并提高膜层致密性。
本发明授权一种用于磁控溅射设备的溅射腔及磁控溅射方法在权利要求书中公布了：1.一种用于磁控溅射设备的溅射腔，其特征在于：溅射腔内设置有多块靶材（9），每块所述靶材（9）的背部对应设置有一份磁铁组件，每份所述磁铁组件包括多块永磁铁（6），每份所述磁铁组件上的所述永磁铁（6）组成多个同心的磁铁环，每个磁铁环内的所述永磁铁（6）均同极设置，相邻两个磁铁环内的所述永磁铁（6）的极性相反，作业时，每两个相邻磁铁环形成的磁场使所述靶材（9）表面形成一条呈环形的刻蚀跑道； 所述溅射腔内还设置有第一旋转轴承（3），所述第一旋转轴承（3）与各所述磁铁组件连接，其带动各所述磁铁组件互换位置； 其中，各组所述磁铁组件内的的磁铁环的环径不同，以使各所述磁铁组件互换位置后于同一块靶材（9）表面形成的刻蚀跑道中心线互不重合；所述磁铁环为圆环，所述刻蚀跑道为圆环跑道。
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