中微半导体设备(上海)股份有限公司孙长亮获国家专利权
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龙图腾网获悉中微半导体设备(上海)股份有限公司申请的专利一种静电吸盘、下电极组件及等离子体处理装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223206223U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-08发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422181512.4，技术领域涉及：H01J37/32；该实用新型一种静电吸盘、下电极组件及等离子体处理装置是由孙长亮;陈星建设计研发完成，并于2024-09-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种静电吸盘、下电极组件及等离子体处理装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种静电吸盘、下电极组件及等离子体处理装置。所述静电吸盘包含：自下而上依次设置的基层、中间粘合层及陶瓷层，在所述的中间粘合层侧壁环绕设置有保护环，用于保护所述中间粘合层，在所述保护环与所述中间粘合层侧壁之间设置有耐腐蚀层，所述耐腐蚀层完全覆盖所述中间粘合层的侧壁。本实用新型的静电吸盘，在中间粘合层的侧壁外设置耐腐蚀层及保护环，至少形成双重保护，在经长期服役后，即使保护环的耐腐蚀性能降低或失效，所述耐腐蚀层还可以充分保护中间粘合层，避免腐蚀性气体尤其等离子体与中间粘合层直接接触，从而免受侵蚀，有效延长了静电吸盘的使用寿命，提高半导体制造的整体效率和产品质量。
本实用新型一种静电吸盘、下电极组件及等离子体处理装置在权利要求书中公布了：1.一种静电吸盘，包含：自下而上依次设置的基层、中间粘合层及陶瓷层，在所述的中间粘合层侧壁环绕设置有保护环，用于保护所述中间粘合层，其特征在于，在所述保护环与所述中间粘合层侧壁之间设置有耐腐蚀层，所述耐腐蚀层完全覆盖所述中间粘合层的侧壁。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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