乾宇微纳技术(深圳)有限公司董鹏程获国家专利权
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龙图腾网获悉乾宇微纳技术(深圳)有限公司申请的专利光刻掩膜板获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223205762U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-08发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422164168.8,技术领域涉及:G03F1/62;该实用新型光刻掩膜板是由董鹏程;许迪;丁德锐设计研发完成,并于2024-09-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本光刻掩膜板在说明书摘要公布了:本实用新型公开了一种光刻掩膜板,属于微电子技术领域,其中,光刻掩膜板包括光学玻璃和设于光学玻璃表面的膜层,膜层上设有电路图案。本实用新型的光刻掩膜板包括光学玻璃和膜层,电路图案设置在膜层上,当需要更改电路图案时,将膜层取下即可更换,灵活性高;此外,本实用新型的光刻掩膜板的制作工艺简单,无需精密的设备和材料,相较于光刻铬板,制作成本显著降低。因此,本实用新型可以解决现有光刻铬板存在的灵活性低以及成本高的问题。
本实用新型光刻掩膜板在权利要求书中公布了:1.一种光刻掩膜板,其特征在于,包括光学玻璃和设于所述光学玻璃表面的膜层,所述膜层上设有电路图案,所述膜层为聚酯薄膜或聚酰亚胺薄膜;所述光学玻璃和膜层之间还设有胶粘层,所述胶粘层包括光学透明胶。
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