中微半导体设备(上海)股份有限公司黄秋平获国家专利权
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龙图腾网获悉中微半导体设备(上海)股份有限公司申请的专利一种双腔处理系统获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223206231U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-08发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421716563.6，技术领域涉及：H01L21/67；该实用新型一种双腔处理系统是由黄秋平;刘身健;陈煌琳;连增迪;尹志尧设计研发完成，并于2024-07-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种双腔处理系统在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种双腔处理系统，包括：两个处理腔，用于分别对置于其中的基片进行工艺处理；主进气通道，与一工艺气体源相连，气体分流器组件，其设置在主进气通道上，用于将一路工艺气体分成四路工艺气体气流，并分别供应至两个处理腔内；流量调整控制单元，用于根据两个处理腔的基片处理结果控制气体分流器组件以实现对进入两个处理腔内的工艺气体气流的调整。本实用新型通过对两个处理腔内的工艺气体气流进行调整，减小两个处理腔间的刻蚀速率的差异。
本实用新型一种双腔处理系统在权利要求书中公布了：1.一种双腔处理系统，其特征在于，包括： 两个处理腔，用于分别对置于其中的基片进行工艺处理； 主进气通道，与一工艺气体源相连， 气体分流器组件，其设置在所述主进气通道上，用于将一路工艺气体分成四路工艺气体气流，并分别供应至两个所述处理腔内； 流量调整控制单元，用于根据两个处理腔的基片处理结果控制所述气体分流器组件以实现对进入两个处理腔内的工艺气体气流的调整。
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