上海普利生机电科技有限公司戴湘岳获国家专利权
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龙图腾网获悉上海普利生机电科技有限公司申请的专利淡化校正纹的三维打印方法和系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116118195B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211701957.X，技术领域涉及：B29C64/386；该发明授权淡化校正纹的三维打印方法和系统是由戴湘岳;侯峰;刘杰;姜新;邬家望设计研发完成，并于2022-12-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本淡化校正纹的三维打印方法和系统在说明书摘要公布了：本发明提供了一种淡化校正纹的三维打印方法和系统。方法包括如下步骤：获取模型的切片文件，切片文件中包括模型的多层切片；在多层切片中设定一个或多个偏移模块，偏移模块包括相邻的至少两层切片；对偏移模块中的每层切片根据畸变校正规则设定偏移量，其中，畸变校正规则包括校正基准线所在的位置信息；以及在根据切片文件打印偏移模块中的每层切片时，将校正基准线按照偏移量进行位置偏移。本发明的淡化校正纹的三维打印方法和系统，可以在打印过程中通过对打印切片的校正位置进行适当偏移，从而在打印完成后淡化三维打印模型表面的校正纹，提升三维打印的表观质量。
本发明授权淡化校正纹的三维打印方法和系统在权利要求书中公布了：1.一种淡化校正纹的三维打印方法，其特征在于，包括如下步骤： 获取模型的切片文件，所述切片文件中包括所述模型的多层切片； 在所述多层切片中设定一个或多个偏移模块，所述偏移模块包括相邻的至少两层切片； 对所述偏移模块中的每层切片根据畸变校正规则设定偏移量，所述偏移量具有方向，其中，所述畸变校正规则包括校正基准线所在的位置信息和畸变校正方向，其中，当所述畸变校正方向为第一方向校正时，设定所述偏移量为第二方向，而当所述畸变校正方向为第二方向校正时，设定所述偏移量为第一方向，所述第一方向和所述第二方向不平行；以及 在根据所述切片文件打印所述偏移模块中的每层切片时，将所述校正基准线按照所述偏移量进行位置偏移。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人上海普利生机电科技有限公司，其通讯地址为：201615 上海市松江区漕河泾科技绿洲中心路1158号11栋3-4楼；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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