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龙图腾网获悉北京卫星环境工程研究所申请的专利真空质子辐照试验的高均匀性大束斑面离子源装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115831693B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211480562.1，技术领域涉及：H01J37/08；该发明授权真空质子辐照试验的高均匀性大束斑面离子源装置是由李昊;郑慧奇;黄首清;刘宇明;任琼英;杨勇;唐振宇;于强;刘宠;李宇;张永泰;彭毓川;杨艳斌;刘庆海;葛丽丽设计研发完成，并于2022-11-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本真空质子辐照试验的高均匀性大束斑面离子源装置在说明书摘要公布了：本发明公开了真空质子辐照试验的高均匀性大束斑面离子源装置，包括气源，所述气源的输出端连接有电离室，所述电离室连接有引出面，所述引出面连接有加速电极，所述加速电极连接有靶台，所述靶台连接有计算机，所述计算机连接有高压电源，所述高压电源连接有电子源，所述高压电源还与电离室、引出面、加速电极连接。本发明中，使用多圈多圆弧形热阴极，各个圆弧的温度可分别控制，具有与热阴极交错布置的多层同心圆筒形电极，将引出电极延伸至电离室内部，因而离子束流的均匀性更好；热阴极的圈数、圆筒形电极的层数以及引出电极的面积等可增减，可实现大束斑面积的离子束流，具有离子通量自动调节功能，因而靶台位置的束流通量稳定性更好。

本发明授权真空质子辐照试验的高均匀性大束斑面离子源装置在权利要求书中公布了：1.真空质子辐照试验的高均匀性大束斑面离子源装置，其特征在于，包括气源（1），所述气源（1）的输出端连接有电离室（2），所述电离室（2）连接有引出面（3），所述引出面（3）连接有加速电极（4），所述加速电极（4）连接有靶台（5），所述靶台（5）连接有计算机（6），所述计算机（6）连接有高压电源（7），所述高压电源（7）连接有电子源（8），所述高压电源（7）还与电离室（2）、引出面（3）、加速电极（4）连接，所述电子源（8）与电离室（2）连接； 所述电子源（8）包括热阴极一（9）、热阴极二（10）、热阴极三（11），所述热阴极一（9）、热阴极二（10）、热阴极三（11）呈多圈分布，每圈为多个圆弧结构，所述电子源（8）产生电子束流，电子束流被电极引入电离室（2）中； 所述电离室（2）内还设置有筒形电极一（12）、筒形电极二（13）、筒形电极三（14）、筒形电极四（15），所述筒形电极一（12）、筒形电极二（13）、筒形电极三（14）、筒形电极四（15）在轴向上位于热阴极一（9）、热阴极二（10）、热阴极三（11）的后方，在径向上与热阴极交错布置； 所述引出面（3）包括引出电极（16）和栅极（17），所述引出电极（16）与电离室（2）相连，所述引出电极（16）具有一个圆筒形的边沿，该边沿延伸进入电离室（2），代替电离室（2）靠近引出面（3）的一部分内壁，所述栅极（17）在引出电极（16）后方，所述引出电极（16）的电压低于电离室（2）的电压。

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