佳能特机株式会社绪方俊宏获国家专利权
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龙图腾网获悉佳能特机株式会社申请的专利成膜装置、膜厚测量方法以及电子器件的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116180037B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211437735.1，技术领域涉及：C23C14/56；该发明授权成膜装置、膜厚测量方法以及电子器件的制造方法是由绪方俊宏;安川英宏;千叶伶太;泷田裕一设计研发完成，并于2022-11-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本成膜装置、膜厚测量方法以及电子器件的制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供将作为膜厚的测量对象的基板的形状维持为恒定的成膜装置、膜厚测量方法以及电子器件的制造方法。成膜装置对基板进行成膜。测量部件测量形成于基板的膜的厚度。静电卡盘利用静电力吸附基于测量部件测量的测量对象的基板。移动部件使静电卡盘移动，以避免在测量部件的测量对象的基板的搬送中基板与静电卡盘接触。
本发明授权成膜装置、膜厚测量方法以及电子器件的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种成膜装置，其特征在于， 该成膜装置具备： 第一成膜块； 第二成膜块；以及 连结装置，连结所述第一成膜块和所述第二成膜块， 所述第一成膜块和所述第二成膜块分别具备： 搬送室，配置有搬送基板的搬送机器人；以及 多个成膜室，以包围所述搬送室的周围的方式配置，对基板进行成膜， 所述连结装置具备用于进行从所述第一成膜块向所述第二成膜块搬送的基板的交接的交接室， 所述交接室具备： 测量部件，通过对形成于基板的膜照射光而测量膜厚； 静电卡盘，利用静电力吸附基于所述测量部件测量的测量对象的基板；以及 移动部件，使所述静电卡盘沿铅垂方向在第一位置与第二位置之间移动，所述第一位置是利用所述测量部件测量膜的厚度的位置，所述第二位置是避免所述测量部件的测量对象的基板的搬送过程中的基板与所述静电卡盘的接触的位置。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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