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龙图腾网获悉南方科技大学申请的专利一种连续相位超构表面结构、空间光调制器以及制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115793326B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211339304.1，技术领域涉及：G02F1/1337；该发明授权一种连续相位超构表面结构、空间光调制器以及制备方法是由刘言军;王家伟设计研发完成，并于2022-10-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种连续相位超构表面结构、空间光调制器以及制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种连续相位超构表面结构、空间光调制器以及制备方法，其连续相位超构表面结构包括：衬底与若干楔形超表面单元；当连续相位超构表面结构被配置为空间光调制器的基板时，通过楔形超表面单元产生连续的相位梯度，以实现反射透射的光束转向调整、近亚微米级别的高分辨率取向液晶以及近亚微米级别的高分辨图形化配向液晶之中的一种或多种操作。本发明通过产生连续的相位梯度且液晶控制偏振方向来满足激光雷达、光通信等实际应用中对光束转向的要求，尤其是不再受偏转角和旁瓣噪声的约束；且可以对液晶取向并使其产生预倾角，这让液晶在外场驱动时更加有序且光电性能增强；同时，还通过高分辨图形化配向液晶来实现矢量光束的产生和调控。

本发明授权一种连续相位超构表面结构、空间光调制器以及制备方法在权利要求书中公布了：1.一种连续相位超构表面结构，其特征在于，包括： 衬底； 若干可调谐连续相位的楔形超表面单元，被设置在所述衬底上； 其中，当所述连续相位超构表面结构被配置为空间光调制器的基板时，通过所述楔形超表面单元产生连续的相位梯度，以实现反射透射的光束转向调整、近亚微米级别的高分辨率取向液晶并使液晶产生预倾角以及近亚微米级别的高分辨图形化配向液晶之中的一种或多种操作； 其中，连续相位超构表面结构的制备方法包括： 通过电子束曝光将涂设在衬底上的光刻胶层图案化，并基于预先设置的电子束蒸镀系统与蒸镀材料对图案化的光刻胶层进行沉积，包括：在衬底上镀设的铝薄膜表面上旋涂正性电子束光刻胶，制备出厚度为440～460nm的光刻胶层；在对带有光刻胶层的衬底进行145～155℃预焙1.5～2.5min之后，在1.5～2.5nA电流、75～85kV电压的条件下，以350μCcm2的剂量进行电子束光刻曝光；将曝光的衬底置于显影液中显影58～62s，在衬底上得到呈底面为梯形的四棱柱形状的光刻胶图案；在显影之后，基于预先设置的电子束蒸镀系统与蒸镀材料在真空度为5×10E-6Torr与蒸发速率控制在的条件下，对所述呈底面为梯形的四棱柱形状的光刻胶图案实施镀膜沉积操作；随着镀膜沉积厚度的增加至70nm时，将所述呈底面为梯形的四棱柱形状的光刻胶图案的短边口处封上，继而对长边口处继续进行镀膜沉积操作，直至得到175～185nm的楔形超表面单元； 采用预设的去胶液将经沉积后的图案之外的光刻胶层剥离，使得沉积后的图案保留到衬底上以形成楔形超表面单元。

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