友达光电(昆山)有限公司;友达光电股份有限公司曾弘岳获国家专利权
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龙图腾网获悉友达光电(昆山)有限公司;友达光电股份有限公司申请的专利掩模板图层的检测方法、检测装置、检测设备及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115619744B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211290292.8，技术领域涉及：G06T7/00；该发明授权掩模板图层的检测方法、检测装置、检测设备及存储介质是由曾弘岳;廖至钦;周铭章;林富良设计研发完成，并于2022-10-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本掩模板图层的检测方法、检测装置、检测设备及存储介质在说明书摘要公布了：本发明提供一种掩模板图层的检测方法、检测装置、检测设备及存储介质。检测方法包括获取至少一掩模板图层；将所述至少一掩模板图层划分为一第一区域以及一第二区域，其中所述第一区域为非检测区，所述第二区域为检测区，且所述第二区域为异形区域；将所述第二区域划分为多个呈阵列排布的区块；将所述区块中的一第一区块与至少一第二区块进行比对，得到一比对结果；根据所述比对结果判断所述掩模板图层的缺陷类型；其中，所述第一区域具有一第一背景色，所述第二区域具有一第二背景色，所述第一背景色与所述第二背景色不同。
本发明授权掩模板图层的检测方法、检测装置、检测设备及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种掩模板图层的检测方法，其特征在于，包括： 获取至少一掩模板图层； 将所述至少一掩模板图层划分为一第一区域以及一第二区域，其中所述第一区域为非检测区，所述第二区域为检测区，且所述第二区域为异形区域； 将所述第二区域划分为多个呈阵列排布的区块； 将所述区块中的一第一区块与至少一第二区块进行比对，得到一比对结果； 根据所述比对结果判断所述掩模板图层的缺陷类型； 其中，所述第一区域具有一第一背景色，所述第二区域具有一第二背景色，所述第一背景色与所述第二背景色不同。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人友达光电(昆山)有限公司;友达光电股份有限公司，其通讯地址为：215300 江苏省苏州市昆山市经济技术开发区龙腾路6号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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