全芯智造技术有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网获悉全芯智造技术有限公司申请的专利基于偏移误差的模型选择方法及装置、存储介质、终端设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115659896B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211145551.8，技术领域涉及：G06F30/392；该发明授权基于偏移误差的模型选择方法及装置、存储介质、终端设备是由请求不公布姓名设计研发完成，并于2022-09-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于偏移误差的模型选择方法及装置、存储介质、终端设备在说明书摘要公布了：一种基于偏移误差的模型选择方法及装置、存储介质、终端设备，该方法包括：获取待处理版图；采用目标模型对待处理版图进行多次调整，以得到第一数量个调整后的版图，其中，目标模型用于根据光学临近效应对待处理版图进行尺寸调整；采用目标模型分别计算待处理版图的偏移误差以及第一数量个调整后的版图的偏移误差，以得到第二数量个偏移误差；基于第二数量个偏移误差，获得最终偏移误差；基于最终偏移误差确定是否选择目标模型。通过本申请技术方案能够提升模型选择的可靠性。
本发明授权基于偏移误差的模型选择方法及装置、存储介质、终端设备在权利要求书中公布了：1.一种基于偏移误差的模型选择方法，其特征在于，包括： 获取待处理版图； 采用目标模型对所述待处理版图进行多次调整，以得到第一数量个调整后的版图，其中，所述目标模型用于根据光学临近效应对待处理版图进行尺寸调整； 采用所述目标模型分别计算所述待处理版图的偏移误差以及所述第一数量个调整后的版图的偏移误差，以得到第二数量个偏移误差； 基于所述第二数量个偏移误差，获得最终偏移误差，具体为，获取所述第二数量个偏移误差中最大值；将所述最大值确定为所述最终偏移误差； 基于所述最终偏移误差确定是否选择所述目标模型。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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