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龙图腾网获悉中国科学院金属研究所申请的专利一种三维纳米X射线成像专用单颗粒样品的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115326847B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210804740.5，技术领域涉及：G01N23/046；该发明授权一种三维纳米X射线成像专用单颗粒样品的制备方法是由王绍钢;宋苾莹;李长记;张磊设计研发完成，并于2022-07-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种三维纳米X射线成像专用单颗粒样品的制备方法在说明书摘要公布了：本发明属于X射线成像技术领域，特别涉及一种三维纳米X射线成像专用单颗粒样品的制备方法。该方法包括：分散尺寸为10～50μm的颗粒；筛选颗粒；加工制备一定直径的圆柱作为支撑棒；配制胶液，将胶液置于竖直固定的支撑棒的最下端的顶表面上，形成半球状胶滴；利用薄片镜面确定半球状胶滴最低点的高度；调整颗粒平面位置，使得半球状胶滴最低点接触到颗粒，继续降低高度，增加粘结体积；升起支撑棒，待粘结强度达到最大后，取下支撑棒，开始三维纳米X射线成像单颗粒样品扫描。本发明克服了现有方法的易遮挡、失败率高、设备昂贵、技术门槛高等弊端，实现各类金属、陶瓷以及复合材料颗粒三维X射线成像专用样品的精准、简单、快速、低成本制备。

本发明授权一种三维纳米X射线成像专用单颗粒样品的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种三维纳米X射线成像专用单颗粒样品的制备方法，其特征在于，包括如下步骤： 步骤1：将多个颗粒置于一个平整的基板上，对基板施加轻微震动，使颗粒分散开； 步骤2：将基板放置到光学显微镜下，筛选目标颗粒，在目标颗粒周围做标记； 步骤3：加工制备圆柱，圆柱的两端表面要平整，粗糙度不超过10μm；圆柱的直径为100～600μm，颗粒的尺寸限定为10～50μm，圆柱的直径、半球状胶滴以及颗粒的尺寸相匹配； 步骤4：选取步骤3中加工好的圆柱作为支撑棒，将其一端用夹具竖直固定，并且作为圆柱长度方向垂直于放置台面的夹持装置； 步骤5：配制好胶液，等待1～3分钟，蘸取胶液，置于步骤4中固定好的支撑棒的最下端的顶表面上，获得半球形状胶滴； 步骤6：将步骤2的带有目标颗粒的基板，放置于步骤5的支撑棒下方的台面上； 步骤7：选择一块上表面为镜面的薄片，记录薄片厚度为h1； 步骤8：将步骤7中的薄片放到步骤6的基板的无颗粒区域，利用千分尺调整薄片的平面位置，使其位于支撑棒的下方，在放大镜的辅助下，调整支撑棒的高度，使得已初步固化的半球状胶滴刚刚接触镜面，记录此时半球状胶滴最低点的Z方向坐标为Z1； 步骤9：利用千分尺测量颗粒高度，记为h2； 步骤10：粗略调整目标颗粒的平面位置，使其位于支撑棒的正下方，调整半球状胶滴最低点的Z方向坐标为Z1+h1-h2；此时，半球状胶滴最低点与目标颗粒的最高点位于同一Z方向坐标点处； 步骤11：升起支撑棒，去除已初步固化的半球状胶滴，重复步骤5，并重新调整半球状胶滴最低点的Z方向坐标为Z1+h1-h2； 步骤12：在放大镜的观察下，细微调整目标颗粒的平面位置，使得支撑棒下端的顶表面上的尚未凝固的半球状胶滴最低点接触到目标颗粒； 步骤13：调整半球状胶滴最低点高度，根据颗粒的尺寸，继续下降2～10μm，以增大接触体积，增加固定强度； 步骤14：升起支撑棒，静置一段时间后，取下支撑棒，开始三维纳米X射线成像单颗粒样品扫描。

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