信阳舜宇光学有限公司方叶庆获国家专利权
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龙图腾网获悉信阳舜宇光学有限公司申请的专利滤光片及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113820775B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111223221.1，技术领域涉及：G02B5/28；该发明授权滤光片及其制备方法是由方叶庆;贺倩倩;马科;郭景朝;张见宝;丁维红;杨伟;彭流洋;霍恒;郭景劭;董文瑞;李云设计研发完成，并于2021-10-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本滤光片及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种滤光片及其制备方法，滤光片包括基板1以及设置在所述基板1两侧的带通膜2和增透膜3，所述带通膜2和所述增透膜3均由高、低折射率膜层交替排列形成；所述滤光片在0°‑50°入射角度下，1000nm‑2000nm波段内的透过率在95％以上。本发明的滤光片能实现在1000nm‑2000nm波段内，0°‑50°入射角度下的高透过率。
本发明授权滤光片及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种滤光片，其特征在于，包括基板1以及设置在所述基板1两侧的带通膜2和增透膜3，所述带通膜2和所述增透膜3均由高、低折射率膜层交替排列形成；在镀膜时，先在基板1的一侧镀制带通膜2，然后再在基板1的另一侧镀制增透膜3； 所述滤光片在0°-50°入射角度下，1000nm-2000nm波段内的透过率在95％以上； 所述带通膜2的厚度与所述增透膜3的厚度的比例在1:1至1:1.8之间； 所述增透膜2在150℃以上的环境下镀制，且首层为二氧化硅材料，其镀膜离子源功率为其余层二氧化硅的1.5倍，镀膜速率为其余层二氧化硅的0.8倍； 所述滤光片的表面PV值在直径17mm内小于20微米。
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