意法半导体(图尔)公司F·戈蒂埃获国家专利权
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龙图腾网获悉意法半导体(图尔)公司申请的专利氧化物场沟槽(OFT)二极管控制器件获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114124062B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-08发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111003833.X,技术领域涉及:H03K17/74;该发明授权氧化物场沟槽(OFT)二极管控制器件是由F·戈蒂埃设计研发完成,并于2021-08-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本氧化物场沟槽(OFT)二极管控制器件在说明书摘要公布了:本公开的实施例涉及氧化物场沟槽OFT二极管控制器件。一种器件,包括连接在第一节点与第一端子之间的可控电流源,第一端子耦合到可控二极管的阴极。电容器连接在第一节点与第二端子之间,第二端子耦合到可控二极管的阳极。第一开关连接在第一节点与第三端子之间,第三端子耦合到可控二极管的栅极。第二开关连接在第二端子与第三端子之间。第一二极管连接在第三端子与第二端子之间,第一二极管的阳极优选耦合到第三端子。
本发明授权氧化物场沟槽(OFT)二极管控制器件在权利要求书中公布了:1.一种器件,包括: 电子器件,包括: 可控电流源,耦合在第一节点与第一端子之间,所述第一端子被耦合到可控二极管的阴极; 电容器,耦合在所述第一节点与第二端子之间,所述第二端子被耦合到所述可控二极管的阳极; 第一开关,耦合在所述第一节点与第三端子之间,所述第三端子被耦合到所述可控二极管的栅极; 第二开关,耦合在所述第二端子与所述第三端子之间;以及 第一二极管,耦合在所述第三端子与所述第二端子之间,所述第一二极管的阳极被耦合到所述第三端子。
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