东京毅力科创株式会社三枝直也获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基片处理装置和基片运送方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114078729B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110907202.4，技术领域涉及：H01L21/677；该发明授权基片处理装置和基片运送方法是由三枝直也;田边广太设计研发完成，并于2021-08-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本基片处理装置和基片运送方法在说明书摘要公布了：本发明提供能够抑制设置于开口部的构造物的劣化的基片处理装置和基片运送方法。基片处理装置包括：具有供基片通过的内部空间的基片送入送出模块，在将基片送出到被控制成与大气压相比为正压的外部空间时，该内部空间被控制为大气压环境；开口部，其设置在该基片送入送出模块，将内部空间与外部空间连通；闸门，其设置在开口部，具有运送空间；从外部空间侧向开口部的缘部喷出吹扫气体的喷出部；和经由与开口部不同的路径对运送空间进行排气的排气口。
本发明授权基片处理装置和基片运送方法在权利要求书中公布了：1.一种基片处理装置，其特征在于，包括： 具有供基片通过的内部空间的基片送入送出模块，在将所述基片送出到被控制成与大气压相比为正压的外部空间时，所述内部空间被控制为大气压环境； 开口部，其设置在该基片送入送出模块，将所述内部空间与所述外部空间连通； 对所述开口部设置的闸门，其具有运送空间； 从所述外部空间侧向所述开口部的缘部喷出吹扫气体的喷出部；和 经由与所述开口部不同的路径对所述运送空间进行排气的排气口。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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