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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利温度控制方法和等离子体处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113394070B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110244864.8，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权温度控制方法和等离子体处理装置是由箕浦佑也;榎本果穗;坂井隼人设计研发完成，并于2021-03-05向国家知识产权局提交的专利申请。

本温度控制方法和等离子体处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种温度控制方法和等离子体处理装置。温度控制方法包括切换工序、点火工序、计算工序、第一控制工序及第二控制工序。在切换工序中，将向载置台的内部的流路供给的热介质从在进行蚀刻处理的情况下由第一温度控制部供给的第一温度的热介质切换为在进行清洁处理的情况下由第二温度控制部供给的第二温度的热介质。在点火工序中，开始供给清洁气体，并将等离子体点火。在斜率计算工序中，基于流路的出口侧的热介质的温度来计算热介质的温度变化的斜率。在第一控制工序中，控制第二温度控制部，直至流路的出口侧的热介质的温度稳定为第三温度为止。在第二控制工序中，控制第二温度控制部，以使流路的出口侧的热介质的温度成为设定值。

本发明授权温度控制方法和等离子体处理装置在权利要求书中公布了：1.一种温度控制方法，包括以下工序： 切换工序，将向设置于载置台的内部的流路供给的热介质从第一温度的所述热介质切换为第二温度的所述热介质，所述载置台被配置于等离子体处理装置的处理容器内，用于载置基板，所述第一温度的所述热介质是在针对所述基板进行蚀刻处理的情况下由第一温度控制部供给的热介质，所述第二温度的所述热介质是在从所述处理容器搬出所述基板后进行去除附着在被设置于所述载置台的上部的静电吸盘的反应生成物的清洁处理的情况下由第二温度控制部供给的热介质； 点火工序，开始向所述处理容器内供给清洁气体，并将等离子体点火； 斜率计算工序，基于所述流路的出口侧的所述热介质的温度来计算所述热介质的温度变化的斜率； 第一控制工序，控制所述第二温度控制部，直至所述流路的出口侧的所述热介质的温度稳定为比预先设定的设定值低的第三温度为止，其中，所述设定值为低于所述热介质的气化温度的温度；以及 第二控制工序，控制所述第二温度控制部，以使所述流路的出口侧的所述热介质的温度成为所述设定值。

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