中微半导体设备(上海)股份有限公司段蛟获国家专利权
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龙图腾网获悉中微半导体设备(上海)股份有限公司申请的专利形成涂层的装置和方法、零部件和等离子体装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114678248B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-08发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202011547893.3,技术领域涉及:H01J37/32;该发明授权形成涂层的装置和方法、零部件和等离子体装置是由段蛟;孙祥;陈星建;杨桂林设计研发完成,并于2020-12-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本形成涂层的装置和方法、零部件和等离子体装置在说明书摘要公布了:一种形成涂层的装置和方法、零部件和等离子体装置,形成涂层的装置包括:真空腔;第一靶材和第二靶材;零部件本体,与第一靶材和第二靶材相对设置;所述第一靶材原子和第二靶材原子在零部件本体的表面形成复合耐腐蚀涂层;第一辅助监测器,用于监测第一靶材的特征信号;第二辅助监测器,用于监测第二靶材的特征信号;速率监测器,用于监测所述复合耐腐蚀涂层的形成速率,当形成速率偏离目标速率时,将偏差信号反馈至第一辅助监测器和第二辅助监测器,第一辅助监测器和第二辅助监测器分别根据第一靶材和第二靶材的特征信号的强弱变化进行独立控制各自靶材的速率,以控制复合耐腐蚀涂层形成速率的稳定性。所形成的复合耐腐蚀涂层中的均一性较好。
本发明授权形成涂层的装置和方法、零部件和等离子体装置在权利要求书中公布了:1.一种用于形成复合耐腐蚀涂层的装置,其特征在于,包括: 真空腔; 第一靶材和第二靶材,且所述第一靶材和第二靶材的材料不同,位于所述真空腔内; 零部件本体,位于所述真空腔内,与所述第一靶材和第二靶材相对设置; 第一激发装置,用于激发出第一靶材内的第一靶材原子; 第二激发装置,用于激发出第二靶材内的第二靶材原子,所述第一靶材原子和第二靶材原子在零部件本体的表面形成复合耐腐蚀涂层,所述复合耐腐蚀涂层的材料为稀土元素的氟氧化物、与氧化硅、氧化铝形成的化合物中的至少一种; 第一辅助监测器,位于所述真空腔内,用于监测所述第一靶材的特征信号; 第二辅助监测器,位于所述真空腔内,用于监测所述第二靶材的特征信号; 速率监测器,位于所述真空腔内,用于监测所述复合耐腐蚀涂层的形成速率,当所述形成速率偏离目标速率时,将偏差信号反馈至第一辅助监测器和第二辅助监测器,所述第一辅助监测器和第二辅助监测器分别根据第一靶材和第二靶材的特征信号的强弱变化进行独立控制,以使复合耐腐蚀涂层形成速率的稳定控制。
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