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东京毅力科创株式会社;法国国立奥尔良大学田原慈获国家专利权

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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社;法国国立奥尔良大学申请的专利蚀刻方法和蚀刻装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN113966546B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-08发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080041655.7,技术领域涉及:H01L21/3065;该发明授权蚀刻方法和蚀刻装置是由田原慈;雅各·法盖;前川薫;大野久美子;佐藤渚;雷米·杜萨特;托马斯·蒂洛彻;菲利普·勒福舍;盖尔·安托万设计研发完成,并于2020-06-02向国家知识产权局提交的专利申请。

蚀刻方法和蚀刻装置在说明书摘要公布了:蚀刻方法包括:物理吸附工序,一边将形成有蚀刻对象膜的被处理体进行冷却,一边在第一处理气体的压力比针对被处理体的温度的该第一处理气体的饱和蒸气压小的条件下使基于该第一处理气体的吸附质物理吸附于蚀刻对象膜;以及蚀刻工序,利用第二处理气体的等离子体来使吸附质与蚀刻对象膜进行反应,由此对蚀刻对象膜进行蚀刻。

本发明授权蚀刻方法和蚀刻装置在权利要求书中公布了:1.一种蚀刻方法,包括以下工序: 物理吸附工序,一边将形成有蚀刻对象膜的被处理体进行冷却,一边在第一处理气体的压力比针对所述被处理体的温度的该第一处理气体的饱和蒸气压小的条件下使基于该第一处理气体的吸附质物理吸附于所述蚀刻对象膜; 置换工序,通过使所述吸附质的一部分挥发的第三处理气体来置换所述第一处理气体,以调整所述吸附质的厚度;以及 蚀刻工序,利用第二处理气体的等离子体来使所述吸附质与所述蚀刻对象膜进行反应,由此对所述蚀刻对象膜进行蚀刻。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人东京毅力科创株式会社;法国国立奥尔良大学,其通讯地址为:日本东京都;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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